投影光刻相关论文
现有主流光刻技术与设备变得越来越复杂的原因之一在于其仍然囿于线性光学光刻范畴，未能突破光学衍射极限，是衍射极限附近的光刻技术......
投影光刻机普遍采用衍射光学元件(DOE)来产生各种照明模式。针对投影光刻机中准分子激光器空间相干性差的特点，提出了一种混合分区......
随着半导体集成电路的发展和“摩尔定律”对芯片关键尺寸的预测和推进,光刻人不得不提出并使用更加精确的模型和引入更好的优化算......
光刻一般被认为是每代半导体器件的关键技术.几十年来光学投影光刻是大批量生产集成电路光刻技术的最好选择,目前普遍认为光学系统......
掩模制作是电子束散射角限制投影光刻(SCALPEL)的关键技术.通过优化工艺,制作出具有'纳米硅镶嵌结构'的低应力SiNx薄膜作......
针对投影光刻成像系统在数值孔径足够大时所产生的分辨力和焦深的矛盾，详细研究了光瞳滤波对投影成像对比度的改善情况，根据不同掩模......
本文从菲涅尔衍射模型出发,在部分相干条件下对集成电路制造工艺所常用的光刻法的原理性限制作了研究。对于接触法光刻技术,本文给......
在光学系统偏振传输理论的基础上,对一高数值孔径(NA)的透射式光刻系统进行了偏振分析,分析中考虑了系统的实际特性——现有工艺水......
投影光刻机普遍采用衍射光学元件(DOE)来产生各种照明模式。针对投影光刻机中准分子激光器空间相干性差的特点,提出了一种混合分区......
掩模投影成像干涉光刻技术以在很小或几乎不增加光刻系统成本的基础上来提高光刻分辨率为目的，充分利用系统的有限孔径，将掩模图形不......
为研究大面积激光投影光刻的调焦,利用Zemax光学设计软件模拟离焦对光程差(OPD)和调制传递函数(MTF)的影响,分析二者对投影曝光图......
期刊
<正>为了提高反射率,软X射线投影光刻中使用的掩膜是制备在多层膜上的反射式掩膜,由于有微缩光学系统,它有相对较大的特征尺寸;同......
软X射线投影光刻的研究近年来取得了突破性进展,所采用的新型光学系统由无污染激光等离子光源及高分辨率大视场投影光刻系统组成.......
深紫外光刻机作为极大规模集成电路的主流加工设备,亟待实现国内自主研制。作为光刻机的核心部分,投影光刻物镜的分辨率已经超过瑞......
高NA光学系统一般指的是高NA投影光刻物镜。高NA投影光刻物镜是光刻机的核心组成部分,其成像质量的好坏决定着最终的光刻性能。偏......
<正> TH703 2002053976大口径精密投影光刻制版镜头的光学装校=Optical assemblyand rectification of big aperture’s precision......
离轴照明是现代投影光刻中的一种重要的分辨率增强技术。针对不同的照明模式要求,提出了一种利用自由曲面来实现离轴照明的方法。......
离轴照明作为一种重要的分辨率增强技术被广泛地应用于投影光刻系统。使用衍射光学元件（DOE）作为光刻照明系统的光束整形器件，能够在......
投影曝光工艺是集成电路制造过程中的关键环节,曝光系统的工艺水平已成为衡量微电子制造技术的重要标志。重点介绍了目前193 nm光......
