抛光效率相关论文
钛合金是在20世纪发展起来的一种结构金属,它的热强度高、耐腐蚀性好、且具有良好的力学综合性能,因而作为金属结构部件材料广泛应......
随着我国科学技术飞速发展,对光学元件的要求越来越高。尤其是在非球面光学元件的抛光与研磨领域,非球面反射镜的制造技术遭遇加工......
对利用自行配制的水基磁流变抛光液和磁流变抛光实验样机进行了以抛光去除效率和表面粗糙度为考核指标的工艺实验.应用正交试验方......
“新型氧化铈抛光粉”是国家科技部资助项目，它主要用于电子信息材料的抛光，如电视玻壳、电脑玻壳、真空导电玻璃 (I.T.O)抛光，石英晶......
为满足强激光系统对光学元件表面疵病的高要求,提出了一种利用抛光效率来提高元件表面质量的新工艺,这种工艺基于现代光学环抛技术......
通过对机械抛光后的YAG表面进行了研究，结果表明：合理优化工艺参数，可获得较好的面形和较低的粗糙度，影响抛光效率的因素为磨粒、正压......
透明铝酸镁尖晶石（MgAl2O4）具有优异的光学性能,随着光电技术的发展,铝酸镁尖晶石的需求量日益增加,对其表面质量也提出更高的要求。......
摘 要：本文从瓷质抛光机横梁摆动规律入手，分析了复合摆动横梁两个方向的摆动规律与磨头对砖坯覆盖率的影响，进而提出复合摆动抛光机......
为研究单晶锗镜片表面光洁度无法达到要求的加工技术难题,基于数控高速抛光方法,开展了聚氨酯和沥青两种抛光模的数控高速抛光优化......
分析了化学镀Ni-P合金沉积机理中最为重要的原子氢理论,简述了磁流变抛光过程中材料去除机理,并选取在磁流变抛光过程中主要的工艺......
本文阐述了聚氨酯微孔抛光片的制备及其对光学玻璃的抛光应用。对影响抛光片工作性能的一些主要因素进行了实验研究,初步获得影响......
影响玻璃抛光的因素是极为复杂的。为避免玻璃抛光中存在的盲目性,提高生产效率,必须抓住影响玻璃抛光的主要因素,即正确掌握不同......
在自制的磁流变抛光实验装置中,通过被加工零件和Bingham凸起相对运动产生的剪切力来实现抛光.在该装置上进行工艺实验,研究了磁流......
为改善CeO2粉体的化学机械抛光（CMP）性能,采用聚乙烯亚胺（PEI）作为分散剂,对CeO2粉体表面进行改性,通过傅立叶红外光谱（FTIR）、透射电镜......
本文介绍了聚氯酯微孔塑料抛光片的制备及其在光学玻璃抛光中的应用。实践证明,这种抛光片比老式柏油混合模提高磨消量8～10倍。其性......
综述了半导体材料SiC抛光技术的发展,介绍了SiC单晶片CMP技术的研究现状,分析了CMP的原理和工艺参数对抛光的影响,指出了SiC单晶片......
<正>光电子与信息产业的迅猛发展加速了化学机械抛光技术(CMP)的更新。CMP作为目前最好的实现全局平面化的工艺技术(整体平面化的......
本文分析了化学机械抛光(CMP)半导体晶片过程中抛光液的重要作用,总结了抛光液的组成及其化学性能(氧化剂、磨料及pH值等)和物理性......
本文主要从抛光机理出发，阐明了各抛光参数与抛光效率及精度的关系，提出了切实可行的控制方法，并实现了产品化。抛光机是最精密的工作......
<正> 在传统的光学另件加工中,抛光是最费力气的一个工序。它是以柏油(包括沥青、松香、蜂腊等)为材料做成模具,由水和抛光粉(氧化......
筒式永磁抛光机可以对形状复杂，体积微小的零件表面实现光整加工。它突破了传统机械加工方法的瓶颈，是一种能对复杂微小零件表面产生......
化学机械抛光(Chemical Mechanical Polishing,CMP)作为目前唯一能够提供表面全局平坦化的一项新技术,在未来高新技术产业中的作用......
