氧化铪薄膜相关论文
利用电子束蒸发和自动晶控技术制备了氧化铪薄膜,并对薄膜进行了退火处理。通过光致发光(PL)光谱、光致发光激发谱(PLE)和X射线衍......
在微电子领域中,集成电路的发展是一直遵循摩尔定律的发展而发展的。随着MOSFET特征尺寸的不断缩小,其等效氧化物层的厚度减小到纳......
随着半导体工业的飞速发展,传统SiO2材料已越来越不能适应MOS器件对栅极材料的要求,而HfO2基薄膜凭借其高的介电常数(high-k)、较......
氧化铪(HfO2)薄膜具有优异的抗激光性能，随着近年来高功率激光器的发展被越来越多的研究者所关注。本实验采用感光溶胶-凝胶法结合......
采用射频磁控溅射法在ITO基底上制备了Hf O2和Hf O2:Au薄膜,并对Cu/Hf O2/ITO和Cu/Hf O2:Au/ITO三明治结构进行了电阻转变性能测试......
薄膜晶体管因为其简单的结构、优异的性能,被广泛的应用于平板显示技术之中。氧化物半导体因为杰出的物理性能被视为平板显示中最......
用双离子束溅射沉积氧化铪光学薄膜，并对此工艺下制备的氧化铪薄膜进行了光学性质、残余应力、结构特性以及激光损伤特性的研究。实......
在基底清洗、薄膜沉积和薄膜后处理三个阶段均采用离子束技术,制备了氧化铪薄膜,并对薄膜的光学性能、表面特性和激光损伤阈值特性......
利用电子束蒸发和光电极值监控技术制备了氧化铪薄膜,并分别用两种后处理方法(空气中退火和氧等离子体轰击)对样品进行了处理.然后......
