氮化时间相关论文
氮化是应用广泛的一种表面热处理工艺,主要优点是基本不改变工件尺寸和自身性能的情况下提高表面的硬度,改进耐磨性,抗疲劳寿命和......
采用射频磁控溅射工艺在扩镓硅基上溅射Ga2O3薄膜，氮化反应组装GaN晶体膜，并对其生长条件进行研究．用扫描电镜(SEM)和X射线衍射(XRD)......
为了综合利用晶体硅金刚线切割废料,以其为原料,使用卧式氮化炉进行氮化反应,研究了氮化温度(1300、1350、1400、1450和1500℃)、......
采用射频磁控溅射在扩镓硅基上溅射Ga2O3薄膜,然后氮化反应组装GaN晶体膜,并研究氮化时间对薄膜晶体质量的影响.测试结果表明:采用......
以工业硅粉为原料,通过直接氮化法制得氮化硅。采用XRD测试方法主要研究了氮化温度、氮化时间和添加剂（α-Si3N4）含量对氮化产物物相......
通道板离子氮化时化合物层不易得到有效控制,在确定了真空度、介质流量和氮化时间3个参量的条件下,研究了离子氮化温度对通道板表......
<正> 钢的氮化通常是在500—580℃(低温氮化)的温度中进行的。近年来,珠光体钢、铁素体马氏体钢、铁素体与奥氏体钢、镍合金与难熔......
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高频氮化的主要优点是速度快,生产周期短。沉淀硬化不锈钢的高频氮化效果尤其显著,可比一般辐射加热炉氮化时间缩短90%。这是因为......
本文介绍了34CrNi1Mo和42CrMo钢大型零件的氮化方法。在试验研究中,采用了氨气化法。在试验研究中,采用了氨气氮化法,并与气体软氮......
采用射频磁控溅射工艺在扩镓硅基上溅射Ga2O3薄膜氮化反应组装GaN晶体膜,并对其生长条件进行研究.用XRD对样品进行了结构分析,测试......
选用3Cr13马氏体不锈钢作为实验材料,利用深层QPQ盐浴复合处理处理技术,研究氮化温度、氮化时间和氰酸根浓度对QPQ复合处理后的渗......
渗氮工艺温度通常在500～600℃，本研究采用熔点低于430℃以下的氮化盐，在430～450℃低温条件下，对45钢和42CrMo种材料的试样进行低温......
