利用直流磁控溅射制得非晶态氮化碳膜，然后在高温下、常压Ｎ 气氛中进行热处理，利用ＤＴＡ，ＸＲＤ 和Ａｕｇｅｒ研究晶化前后氮化碳成分、结构以及键态的变化．实......

用ＸＰＳ研究射频－直流等离子体增强化学气相沉积（ＰＥＣＶＤ）获得的氮化碳（ＣＮ）薄膜的化学结构。Ｃ１ｓ 和Ｎ１ｓ芯能级电子谱分析表明：在ＣＮ膜中含有Ｎ－ｓｐ３ 和Ｎ－ｓｐ２ 两类化学结构，在高......

用双氰胺在乙腈中的溶液作沉积液，以镀有铟锡氧化物(ITO)的导电玻璃为衬底，在阴极上制备了高氮含量的CNx薄膜。XPS分析表明，薄膜最高......

因其设备简单、沉积速率高等特点,磁控溅射沉积技术被广泛地用于各种薄膜制备中.但用反应磁控溅射制备化合物薄膜如氧化物、氮化物......