氮化钛膜相关论文
采用多弧离子镀法在金属表面制备氮化钛装饰层具有成膜速度快，膜层和基底结合力好的优点，因此被国内许多装饰镀膜相关的厂家所采用。......
目的:评价正畸用磁块表面镀氮化钛膜后的细胞毒性.方法:选用L-929小鼠成纤维细胞,采用MTT比色法,以镀镍膜、未镀膜磁块的浸提液作......
采用反应磁控溅射工艺,通过改变N2气流量,在Si衬底上沉积300nm厚TiN薄膜。用原子力显微镜(AFM)观察薄膜表面形貌,并根据分形理论予......
目的:该课题引进工业上对金属表面进行改性的常用方法-多弧离子镀技术,在义齿用Ni-Cr、Co-Cr合金表面沉积氮化钛涂层,通过检测并比......
针对凹版电镀铬存在的污染和氢脆问题,本课题采用磁控溅射镀膜技术和非平衡磁控溅射镀膜技术,以金属钛为原料,在镍凹版材表面制备......
陶瓷材料TiN与金属铝之间的性能悬殊差异(如硬度、弹性模量、热膨胀系数)导致膜/基体系的界面处力学性能很差。为提高TiN/Al的结合......
以乙酰丙酮(ACAC)螯合剂、聚乙二醇(PEG)为分散剂,采用溶胶-凝胶法合成了尖晶石型Li4Ti5O12/TiN材料.考察了TiN膜对尖晶石型Li4Ti5......
用热阴极离子镀制成ＴｉＮ膜，膜厚约３μｍ。用ＸＰＳ和ＸＲＤ分析膜的价态和结构表明：膜表层ＴｉＯ２含量较高，ＴｉＮ含较低。膜内主要由ＴｉＮ相构成，有较强择优取向。膜与衬底结......
用 VCAD 法在不锈钢和工模具钢基体上沉积均匀、致密的 TiN 膜时,TiN 膜的色泽、结晶取向和点阵常数均可能随着工艺参数的改变而改......
研究了用能量为3.0keV～4.0 keV,束流为80mA～200mA的低能氮和氩离子束对Ti膜进行轰击的作用以及用低能氮离子束对真空电弧沉积Ti-N膜......
在多束动态混合（ＭＢＭＩ）－注入系统上利用ＭＢＭＩ技术制备ＴｉＮ膜，ＸＲＤ分析表明，Ｎ＾＋入射角度α（°）、氮钛原子到达比Ｒｎ／Ｔｉ、Ｎ２分压ＰＮ２对膜生长怕择优取向及相结构有影响：性能......
在膜层上接收注入钇离子和沉积钛原子比例Y+:Ti=1:12的条件下,采用钇离子束动态增强沉积方法,在纯铁等基体上制备氮化钛膜层试样.......
目的:定量研究正畸用磁块表面镀氮化钛膜后的抗腐蚀性能.方法:以未镀膜、镀镍膜磁块作为对照,将镀TiN膜的磁块浸入人工唾液中,37 ......
选择Ｗ６Ｍｏ５Ｃｒ４Ｖ２、３Ｃｒ２Ｗ８Ｖ和ＧＣｒ１５等材料研究了多弧离子镀ＴｉＮ涂层也基体的结合力。结果表明，基体表面粗造度越小、硬度越高，支与基体的结合力越好，涂层厚度以２．５～３．５μｍ为......
研究了多弧离子镀制备Ｔｉ－Ｎ膜的重要工艺参数（磁场、弧电流、偏压和氮气流量）对膜层质量的影响．详细分析了它们影响膜层特性的原因，实验证明......
利用扫描电镜，分析了磁控电弧沉积的氮化钛膜微观形貌。实验表明，阴极磁场对膜层的形貌有显著的影响，合理的磁场设计可减少膜层中的宏......
用ＸＰＳ，ＡＥＳ和ＸＲＤ分析厚约２μｍ离子束辅助沉积ＴｉＮ膜的成分和结构，实验表明：膜的表面成分主要是ＴｉＯ２，膜内是轻微择优取向晶粒较细ＴｉＮ。膜与衬底的界面存在混合区......
在氩、氮混合气氛中，对钛金属靶采用直流反应磁控溅射法，在玻璃基片上沉积了氮化钛膜。沉积过程中，总压强在０．２－３Ｐａ范围内变化。利用Ｘ射线衍射......
用反应磁控溅射方法在Si基片上沉积TiN膜,用原子力显微镜（AFM）观察薄膜表面形貌。比较研究了尺码法、盒计数法、功率谱密度法与高度-......
着重讨论了ＴｉＮｘ薄膜俄歇电子谱的定量分析方法和Ｘ射线光电子谱中线形的变化。利用已夼组元强度定量分析技术的ＬＭＶ俄歇电子峰，探讨ＴｉＮｘ薄膜中Ｎ含量......
用微波电子回旋共振（ＥＣＲ）等离子体溅射法在常温下制备出优质的ＴｉＮ薄膜．采用静电探针技术，对ＥＣＲ等离子体进行了诊断，研究了等离子体参数与装置运行......
<正> 离子镀技术作为物理气相沉积(PVD)表面改性的一种手段,由于其优良的工艺特性(如处理温度低、沉积速率高及适用范围广等)以及......
在一种增强型多弧镀膜装置上，实现了低温等离子体渗氮同氮化钛硬质膜沉积联合处理工艺。通过扫描电镜对膜层结构的分析，氮化钛硬质膜......
Influences of deposition parameters on the microstructure and properties of nanostructural TiN films
Titanium nitride (TiN) films with nanostructure were prepared at ambient temperature on a (111) silicon substrate by the......
对真空阴极电弧沉积TiN超硬膜在四种不同材质的精冲模具上的应用进行了研究.结果表明,回火软化温度低的T10钢和CrWMn钢不宜用作沉......
阐明了金刚石覆盖的最佳途径－真空离子覆镀TiN膜。同时通过对从清洗、轰击、到物料的振动与翻滚等全部工艺过程的论述，说明了金刚石......
目的:探讨正畸用磁块表面镀氮化钛膜后抗人工唾液腐蚀性能.方法:将镀膜、未镀膜磁块分别置人人工唾液中,37℃恒温下浸泡1个月,肉眼......
用射频等离子体沉积择优取向的ＴｉＮ膜，用Ｘ－衍射的方法分析影响取向的原因。...
【目的】 对比研究镍铬合金表面不同涂镀层的物理、机械性能和抗腐蚀性能。 【材料和方法】 1．采用磁控溅射技术、电镀技......
目的:评价正畸用磁块表面镀氮化钛膜后的细胞毒性.方法:选用L-929小鼠成纤维细胞,采用MTT比色法,以镀镍膜、未镀膜磁块的浸提液作......
目的研究氮化钛膜形成对纯钛表面细菌黏附能力的影响。方法制作纯钛试件192件,随机选出96件,采用多弧离子镀法在其表面形成氮化钛......
目的比较临床用钴铬合金、镍铬合金表面进行氮化钛镀膜前后对合金表面润湿性、表面形貌以及合金表面成分的影响。方法制作钴铬、镍......
在一种增强型多弧镀膜装置上 ,实现了低温等离子体渗氮同氮化钛硬质膜沉积联合处理工艺。通过扫描电镜对膜层结构的分析 ,氮化钛硬......
等离子增强化学气相沉积法(PCVD)是在物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD)基础上发展起来的一种沉积方法。它兼有 PVD 和 CVD 方......
期刊
