真空电弧沉积相关论文
采用双弯曲磁过滤阴极真空电弧沉积方法在传感器用P型单晶硅上制备ta-C膜,并通过实验测试的手段研究厚度对其组织及性能的影响.研......
本文研究了在Bulat-6多弧离子镀膜机上真空电弧沉积AlCrN薄膜的基础上，对AlCrN薄膜进行稀土元素复合而制备了AlCrREN薄膜，采用Al/RE......
本论文用离子束辅助真空电弧制备了nc-TiN和nc-ZrN薄膜、nc-TiN/CNx复合薄膜、nc-TiN/Cu和（nc-Ti，W）N/Cu多层薄膜。用X-射线衍射仪（XRD......
采用动态偏压和真空度控制方法,用真空电弧沉积技术制备Ti-N涂层,研究了动态参数条件对膜层组织与性能的影响.结果表明,动态参数控......
研究了用能量为3.0keV～4.0 keV,束流为80mA～200mA的低能氮和氩离子束对Ti膜进行轰击的作用以及用低能氮离子束对真空电弧沉积Ti-N膜......
根据等离子沉积的原理，将原真空热处理炉改造成低压真空等离子沉积装置，采用过滤式阴极电弧沉积法分别在单晶硅和高速钢这两种基体上......
用Ti/Mo、Ti/W、Ti/FM复合靶和真空电弧沉积技术制备了三种多元多层膜,并对其组织结构与性能进行了研究.结果表明,多元复合靶与多......
研究了各种氧化工艺对真空电弧沉积TiN薄膜组织与性能的影响.结果表明,TiN薄膜在400℃于不同时间整体氧化时,表面Ti液滴和TiN相发......
通过试验研究了在高速钢表面真空电弧沉积ZrN薄膜的组织与性能,分析了真空度和偏压条件对ZrN薄膜显微结构及性能的影响.......
文章通过氧化工艺对真空电弧沉积TiN薄膜组织与性能的影响这一课题研究，指出在毕业论文的工作中，将专业知识运用到实际课题的研究中，......
采用电弧离子镀膜方法,以高纯石墨为碳离子源在PMMA树脂义齿表面沉积类金刚石膜.应用xps谱和Raman谱对膜层的结构进行了理论分析,......
研究了脉冲偏压对真空电弧沉积TiN薄膜组织与性能的影响。结果表明脉冲偏压幅值在50 0～ 1 70 0V ,脉宽比在 1 2 5～ 2 5的范围内 ,......
