湿法蚀刻相关论文
该文主要介绍了LED用蓝宝石图形化衬底的基础知识。图形化衬底可分为湿法蚀刻(WPSS)和干法蚀刻(DPSS)两种，其基本的制作原理。两种......
针对目前AlGaInP LEDs外量子效率一直不高的现状,本文利用表面粗糙化方法对传统正装和新型倒装AlGaInP LEDs进行表面粗化。本文设......
半导体在线检测中，工程师常会发现晶圆背面颜色有异常，轻者只是单片晶圆不符合出货标准而报废，重则会有剥落物产生导致更多的晶片报废......
本发明提供一种多色红外传感器件，即单片多色红外成像列阵。这种器件是通过用分子束外延(MBE)将碲镉汞材料结构直接生长在定制的读......
在半导体湿法蚀刻中,热磷酸广泛地用于对氮化硅的去除工艺,实践中发现高温下磷酸对氮化硅蚀刻率很难控制。从热磷酸在氮化硅湿法蚀......
蚀刻技术（日本电气）平川克则金子若彦木下胜行１引言薄膜晶体管液晶显示器（ＴＦＴ－ＬＣＤ）以其图像清晰、超薄型、重量轻、耗电少等优点，将成为下一代显......
综述了微电子制造工艺中Ti的湿法蚀刻的发展过程,指出了传统Ti蚀刻液的缺点;介绍了最新研究改良后的多种Ti蚀刻液配方和化学药品、......
硅片清洗对半导体工业的重要性早在50年代初即已引起人们的高度重视,这是由于硅片表面的污染物会严重影响器件的性能、可靠性和成......
