矩形靶相关论文
磁控溅射是七十年代发展起来的一种新型溅射技术[1]、[2]、[3],目前已经在科研和生产中实际应用。磁控溅射与一般溅射相比,具有高......
磁控溅射靶材的利用率在降低生产成本中起着重要作用.正交的靶电磁场能显著地延长电子的运动路程,增加同工作气体分子的碰撞几率,......
研究了公-自转磁控溅射镀膜系统的机理。通过物理建模，使用交点采集和时间步长划分两种模型，分别计算模拟了矩形靶沉积时间的三维分......
根据溅射余弦分布理论建立了平行溅射和斜溅射模型,计算了矩形磁控靶溅射和圆形磁控靶溅射的膜厚均匀性;讨论了各种溅射模式的膜厚......
提出一种基于卷对卷矩形靶的溅射理论模型，借助Matlab模拟仿真软件，对卷绕柔性．衬底（宽度为100mm，弯曲半径为100mm，弯曲角为80°）的膜......
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