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采用射频反应溅射工艺分别在含氟气氛中溅射SiC靶和在含碳气氛中溅射SiN靶制备了两种无定形硅碳氮薄膜.通过NanoIndenter XP型显微......
硅碳氮薄膜具有优异的光、电和机械性能,预计在微电子和光电子领域有良好的应用前景。由于硅碳氮薄膜独特的发光性能和从可见光到......
硅碳氮(SiCN)薄膜作为一种新型的第三代宽带隙半导体材料,具有较高的硬度、良好的发光及场发射特性、高温抗氧化性以及抗腐蚀性和......
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近年来随着计算机硬盘技术的高速发展,磁存储密度迅速提高,减小磁头和磁盘间隙成为提高磁存储密度的一种有效技术手段,减小间隙即减小......