磁控反应溅射法相关论文
采用磁控反应溅射法制备了一系列Al含量不同的Ti-Si-Al-N纳米复合薄膜,采用X射线衍射仪、扫描电子显微镜及配套能量色散谱仪研究了......
本文应用直流磁控反应溅射法,在玻璃基体上制备TiO薄膜.探讨了O和Ar气流速、溅射时间和退火处理对薄膜结构和光催化性能的影响,对T......
近几十年来，随着高新技术的高速发展,对材料表面性能的要求愈来愈高。陶瓷纳米薄膜由于其高硬度、耐高温，耐磨减摩能力，涂层有望满足......
过渡族金属氮化物(MeN)薄膜具有高硬度、低摩擦系数及良好的抗磨损性能，在刀具、耐磨部件等众多工业领域得到广泛应用。随着现代制......
硅基光电子集成的关键是硅基发光材料和硅基光源器件。近十几年来，掺饵硅被认为是获得硅基高效发光的最有希望的途径之一。Er3+离子......
在玻璃衬底上通过磁控反应溅射法，利用纯金属Zn靶，在N2-Ar等离子体氛围中制备出氮化锌薄膜。X射线衍射谱表明氮化锌具有（40O）择优取向，......
利用磁控反应溅射法在PET基底上制备了纳米TiO2抗菌薄膜.利用扫描电子显微镜(SEM)对制得的溅射膜的微观形貌进行了表征,发现采用磁......
为了制备光学性能良好的AlN薄膜。采用磁控反应溅射法制备了氮化铝（AlN）薄膜，利用椭圆仪、分光光度计、傅立叶变换光谱仪对AlN薄膜进......
