随着集成电路中关键尺寸的不断减小，测量精度要求达到原子级才能保证器件的有效性，这给纳米线宽的精确测量带来了新的挑战。2018年第......

　　微电子制造技术正在向更高的集成度发展，亚10纳米线宽结构的高性能微加工技术势在必行。在这一尺度上继续沿用传统的光刻工艺面......

微结构光学是一门属于多门前沿学科交叉的新兴学科,正处在产生重要研究成果的前沿,极有可能引发新兴产业.随着微电子工艺技术的进......

针对原子力显微镜（AFM）在测量线宽等具有陡直边墙的表面形貌时针尖轮廓对测量结果有很大影响的问题,在用AFM可以获取较准确的刻线单......

针对NanoscopeⅢ型原子力显微镜,进行了纳米尺度线宽测量的不确定度分析.提出一个线宽测量的误差校正步骤,确定并分析了影响测量结......

用原子力显微镜(AFM)来测量纳米线宽近几年发展迅速.针对AFM能对纳米线宽表面三维成像的特点,本文提出了一个直方图线宽计算模型,......

前言随着微电子技术突飞猛进的发展，90纳米线宽技术已得到了规模推广，一个芯片已集成至几十到上百亿个元器件。与此同时，图形的微细加......

The Yb3+:LiGd(WO4)2 crystal with the dimension of Φ15×35 mm3 was grown by Czochralski technique. The spectroscopic......

现在在半导体集成电路制造业中,晶体管的线宽尺寸已达到65nm与32nm,并正在向22nm甚至16nm尺寸迈进。当线宽单位缩小到10nm量级时,......