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金属硅化物阻挡层SAB相关论文
金属硅化物阻挡层刻蚀对一次性编程单元数据保持性能的影响
在0.18μm通用平台上加入一次性编程单元(OTP)后组成的衍生工艺被广泛应用于微控制单元(MCU)设计,由于OTP的尺寸非常小,为了使OTP......
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