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该文介绍通过高压高温方法形成氧化物半导体纳米块状材料的方法及其研究结果。Ｘ射线衍射及透射电子显微镜分析表明：在高压高压（４．５ＧＰａ）、高温（≤５００℃）条件下制得锰镍复合氧化物半导体纳米块状材料，材料的晶粒平均尺寸在２０－１００ｎｍ范围内。材料具有密度高，晶面无序态结构明显的特点。在纳米材料制备过程中，初始粉体的粒度及粒度分布，合适的压力和温度是关键。