【摘 要】
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采用双靶轮流溅射技术，以Ｔｉ和六方氮化硼（ｈ－ＢＮ）反应合成Ｔｉ－Ｂ－Ｎ薄膜，并采用ＸＲＤ、ＴＥＭ和显微硬度计研究薄膜的微结构及其力学性能。结果表明，镀态Ｔｉ－Ｂ－Ｎ薄膜为非晶体Ｔｉ（Ｎ，Ｂ）化合物，其硬度达到ＨＫ２４７０；薄膜经过热处理晶化形成ＴｉＮ结
【机 构】
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上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室,上海交通大学高温材料及高温测试教育部开放实验室
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采用双靶轮流溅射技术，以Ｔｉ和六方氮化硼（ｈ－ＢＮ）反应合成Ｔｉ－Ｂ－Ｎ薄膜，并采用ＸＲＤ、ＴＥＭ和显微硬度计研究薄膜的微结构及其力学性能。结果表明，镀态Ｔｉ－Ｂ－Ｎ薄膜为非晶体Ｔｉ（Ｎ，Ｂ）化合物，其硬度达到ＨＫ２４７０；薄膜经过热处理晶化形成ＴｉＮ结构类型的Ｔｉ（Ｎ，Ｂ）晶体，硬度略有降低。
Ti-B-N thin films were synthesized by Ti-HNR reaction with double-target sequential sputtering technique. The microstructure and mechanical properties of the films were investigated by XRD, TEM and microhardness tester. The results show that the Ti-B-N thin film is an amorphous Ti (N, B) compound and its hardness reaches HK2470. The TiN thin film is crystallized to form TiN (Ti, N, B) crystal with a slight decrease in hardness.
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