【摘 要】
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本文采用热解化学气相沉积方法，以甲烷和氢的混合气体为原料，在单晶硅和锗、 铜、钼、石英玻璃、碳化钨和石墨基板上合成金刚石薄膜，而且在单晶硅基板上合成出其面积大于２０×２０ｍｍ２的比
【机 构】
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吉林大学原子与分子物理研究所,吉林大学原子与分子物理研究所,吉林大学原子与分子物理研究所,吉林大学原子与分子物理研究所
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本文采用热解化学气相沉积方法，以甲烷和氢的混合气体为原料，在单晶硅和锗、 铜、钼、石英玻璃、碳化钨和石墨基板上合成金刚石薄膜，而且在单晶硅基板上合成出其面积大于２０×２０ｍｍ２的比较均匀的金刚石膜，同时对金刚石膜的生长特性进行了研 究。
In this paper, a pyrolytic chemical vapor deposition method is used to synthesize a diamond thin film on a monocrystalline silicon and germanium, copper, molybdenum, quartz glass, tungsten carbide and graphite substrate by using a mixed gas of methane and hydrogen as a raw material, The diamond films with the area more than 20 × 20mm2 were synthesized, and the growth characteristics of diamond films were also studied.
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