【摘 要】
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1 最佳降温率数年前,顾世洧建立了在半导体器件生产中用控制降温速率达到消除晶体缺陷的最佳件: dT/dt=-AnvT~2exp(-U/kT) (1) 式中T为退火过程中的温度;t为降温时间;n为杂
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1 最佳降温率数年前,顾世洧建立了在半导体器件生产中用控制降温速率达到消除晶体缺陷的最佳件: dT/dt=-AnvT~2exp(-U/kT) (1) 式中T为退火过程中的温度;t为降温时间;n为杂质原子密度;v为近邻原子振动频率;U为迁移势垒高度Uk为玻尔兹曼常数;A为一综合常数,为正数。详见文献[1]。本文稍有改动是为简化表达。
An optimal cooling rate A few years ago, Gu Shih-tao established in the production of semiconductor devices with controlled cooling rate to eliminate the best pieces of crystal defects: dT / dt = -AnvT ~ 2exp (-U / kT) (1) where T Is the temperature during the annealing process; t is the cooling time; n is the atomic density of the impurity; v is the atomic vibration frequency of the neighbors; U is the Boltzmann constant of the barrier height Uk; M is a positive integer. See the literature [1]. A slight change in this article is to simplify the expression.
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