原子层刻蚀相关论文
近年来原子层刻蚀(atomic layer etching,ALE)及原子层沉积(atomic layer deposition,ALD)技术的发展,使得半导体材料和器件的新功......
随着半导体器件的尺寸趋于纳米量级,原子层刻蚀工艺已经成为微电子工业进一步发展的必要技术手段。对于原子层刻蚀工艺,用于刻蚀的......
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技术应用虽然已经开始,但哪一种技术路径最好、谁家的最好仍不得而知。经过多年研发,几家晶圆厂设备供应商终于在2016年推出了基于......
原子层刻蚀(ALE),是与原子层沉积(ALD)相对的反应,通过自限制的去除表面最外层分子,实现原子/分子层精度的刻蚀。随着近年来半导体......
等离子体刻蚀是半导体集成电路（Integrated Circuit,IC）制造工艺中的重要环节,近年来随着IC集成度的不断提高,特征尺寸不断缩小,此外......
随着现在集成电路技术的不断发展,构成芯片的核心器件尺寸在不断地缩小,芯片的加工制造变得越来越精细。主要综述了有望在纳米级芯......
激光诱导原子层加工技术是近两年提出的新兴微细加工技术，本文对激光诱导原子层外延生长、原子层刻蚀、原子层掺杂等主要技术及其对......
