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本文介绍了参加SEMICON/WEST′91展览会所见到的国外光刻设备——新研制的制造亚微米器件(16Mb)用的半导体设备已面市。特别引人注......
光刻是集成电路加工的关键工艺,决定了集成电路发展的趋势.光刻机被誉为世界上最精密的设备.按照工作原理,光刻机可以分为接触式、......
讲述了参观Ｓｅｍｉｃｏｎ／ｗｅｓｔ９４′展览会及考察美国和西德的５个公司、１所大学所了解到的投影光刻技术、电子束曝光技术、透镜面形测试技术的发展。......
主要介绍了亚微米ｉ线投影曝光机上使用的曝光能量积分快门控制系统。论述了新的设计方法和工作原理，在曝光期间挡光快门旋转３６０°是......
