分步重复光刻机相关论文
本文介绍了参加SEMICON/WEST′91展览会所见到的国外光刻设备——新研制的制造亚微米器件(16Mb)用的半导体设备已面市。特别引人注......
Nikon Precisioninc．是Nikon Corporation的一家全资子公司，它向全球各地的微电子行业客户提供尖端的精密光刻设备。Nikon在1980年推......
Nikon Precisioninc．是Nikon Corporation的一家全资子公司，它向全球各地的微电子行业客户提供尖端的精密光刻设备。Nikon在1980年推......
介绍了０．８－１μｍ分步重复投影光刻机投影光刻物镜双远心成象原理及设计研制。所研制的ｇ线１／５精密投影光刻物镜，其数值孔径ＮＡ＝０．４５，视场１５ｍｍ＊１５ｍｍ，畸变不超过±......
较详细介绍了０．８－１μｍ分步重复投影光刻机的主计算机时实时控制系统接口设计，所有接口均采用隔离措施，各种类型接口都具有方便的再扩展功能......
计算机分系统是光刻机整机控制和管理的中枢，直接反映和影响整机的性能和介绍了计算机硬件接口控制原理，描述了分步重复投影光刻机系......
介绍了一种用于亚微米暴光系统的柔性铰链调焦机构，讨论了其设计与计算方法，这种机构得到了２０ｎｍ的分辨力，２００μｍ的行程和小于１弧秒的导向精度。......
介绍用于０．８－１μｍ分步重复投影光刻的机的六自由硅片定位系统。讨论了气足，承片台系统及ＳＴＡＭＰ的设计和计算方法，并给出了设计数据与计算结果。......
介绍了“１．５－２微米实用型分步重复投影光刻机”用的精密快速定位工台的设计，结构特点，精度分析，检测及使用情况。工件台由大行程Ｘ－Ｙ工件台，微动......
叙述了ｉ－ｌｉｎｅ光刻高均匀照明系统的均匀照明原理，以及其具有特殊面形、特殊结构、超光学表面的光学系统光能分布计算模拟的原理、方法。作......
2014年1-12月中国大陆13种主要半导体设备进口14647台、43.66亿美元。制造半导体器件或集成电路的化学气相沉积装置、等离子体干法......
对投影光刻机同轴对准系统进行了理论分析，阐述了系统的成象机理和工作过程，并在整机上检测了同轴对准系统的重复精度。该系统在掩模......
