为满足我国电子工业采用大规模集成电路的需要,我厂和清华大学以及有关单位密切协作,初步试制成负型光刻胶302。负型光刻胶302是......

东芝开发出了用于EUV(Extreme Ultraviolet)曝光的负型低分子光刻胶(Resist),并公布了对线宽/线间隔(L/S)为22 nm的图案进行解像的......

一、引言刻制光学度盘,一般采用刻划镀铬工艺,如果批量大,则可采用先用刻划的方法制得母版,再用虫胶镀铬工艺进行大量复制。可是,......

设计了一个2×2的多模干涉.马赫曾德干涉仪型(MMI-MZI)波导热光开关，选用一种可交联的负型光刻胶作为波导芯层，利用光刻版掩模紫外曝......

文中描述了用光刻的方法在无机电致发光显示器件上制作上电极的方法,主要介绍了一种不含水的负型光刻胶及配套的纯有机显影液、漂......

介绍了卡尔费休容量法和库仑法测定水分的进展及在实际工作中的应用。...

液晶显示器已经成为当今的主流显示器,几乎无处不在。在这样的大环境下,中国大陆的液晶显示器制造公司如雨后春笋,大批涌现。但是,......