Photomask相关论文
通过对掩模衬底材料和掩模加工工艺利用硬性分界条件可满足45 nm及以下技术节点的掩模要求.此外类似于折射指数、平整度、成分、均......
介绍了制版工艺中常见的缺陷类型，分析了缺陷产生与温湿度的关系。通过实际工作应用，就缺陷控制的办法进行了有益的探讨，对光掩模版的......
IP胶亲水性较差,在显影时易造成显影不完全.介绍了一种在显影前适当增加等离子体表面预处理,以提高IP胶表面微粗糙度,进而改善IP胶......
采用有限状态机模型设计了集成电路光刻版上各个图形布局的自动系统.将布局的各个阶段定义为不同的状态,布局规则定义为触发条件,......
紫外光谱研究表明,AZ正性光胶当厚度大于10μm时,在200～285nm的紫外光区几乎不透光。本研究据此研制了一种以固化后的AZ光胶做挡光......
