光掩模相关论文
通过对掩模衬底材料和掩模加工工艺利用硬性分界条件可满足45 nm及以下技术节点的掩模要求.此外类似于折射指数、平整度、成分、均......
通过对掩模缺陷和激光特点的分析，提出用激光气化法修整掩模缺陷中多余铬缺陷的技术，对LMT型激光修版机进行了改进。给出了改造和更......
IP胶亲水性较差,在显影时易造成显影不完全.介绍了一种在显影前适当增加等离子体表面预处理,以提高IP胶表面微粗糙度,进而改善IP胶......
介绍两种用亚稳态氦原子束制作纳米结构的新方法.亚稳态原子束从原子源喷出后首先对其进行横向激光冷却,准直后的原子束穿过与之垂......
2006年1月26日，凸版光掩模宣布它从三星电子半导体部收到“三星生产效率优秀奖”，该奖认可了凸版的接触成绩和它对客户的支持。......
材料与环境的相互作用主要发生在表面,诸如印刷、吸附、粘接、涂装、染色、防腐、微图案化等都要求材料有适当的表面性能。其中有......
1光掩模玻璃基板的定义及种类1.1光学掩模板的定义及分类1.1.1光学掩模板的定义光学掩模板,又称光掩模板、掩模板、掩膜版、光掩膜......
光刻掩模版在集成电路产业中扮演着重要的角色,目前产业界内有掩模版成本越来越高的趋势。作为半导体业多年来的支柱——DNQ光刻胶......
近20年来,集成电路工业每年的增幅都居世界领先地位,这种增长的主要技术动力来自于硅片制造光刻技术的成熟发展,而硅片光刻技术中......
