SmCo薄膜相关论文
以Al、Cu、Ag、Mo、Cr为衬底层,在650℃热硅基片上制备了未经后退火工艺处理的Sm Co基永磁薄膜,研究了薄膜内禀矫顽力的变化规律。......
研究了以Mo为衬底在Si(100)基片上沉积SmCo7永磁薄膜的高温磁学性能。结果表明,高温老化处理对薄膜的晶体结构和磁性能没有显著影......
SmCo是一种新型的稀土磁性材料,因其在磁存储、磁光存储的潜在应用而成为研究热点。它具有极大的磁晶各向异性,此外,其居里温度较......
在当今信息社会中，磁存储获得越来越广泛的应用。而且随着磁存储密度的不断提高，对于磁记录薄膜介质的结构和性能提出了越来越高的要......
以Mo薄膜为衬底层,采用磁控溅射工艺在热单晶si(100)基片上制备了3μm厚的smCo7永磁薄膜,研究了薄膜在25～ 300℃范围内的高温磁学行......
以Sm(Co0.62Fe0.25Cu0.1Zr0.03)7.5合金为靶材,采用磁控溅射工艺在单晶Si基片上沉积了SmCo基永磁薄膜。研究了溅射工艺参数对薄膜......
采用直流磁控溅射法制备SmCo薄膜,研究了退火温度对薄膜微结构及磁性能的影响.XRD分析结果表明,当退火温度为600℃时,SmCo5相析出,......
采用不同的磁控溅射和回火工艺制备了SmCo磁性薄膜.用能谱仪对不同工艺溅射的样品进行了化学成分分析; 用透射电子显微镜和振动样......
利用脉冲激光沉积工艺,分别在单晶Si（100）衬底和玻璃（SiO2）衬底上制备Fe：SmCo/Cu（Cr）薄膜,研究了Fe掺杂对SmCo薄膜结构、磁性能与磁光效应......
采用磁控共溅射方法制备了非晶态的SmCo磁性薄膜，用振动样品磁强计（VSM）分析了薄膜的磁学性能，并通过原位后退火处理研究了其磁学性能......
用直流磁控溅射方法制备了非晶态的SmCo磁性薄膜,并通过不同的退火处理使其具有不同晶粒大小的晶化组织和磁性能.用透射电镜(TEM)......
采用直流磁控溅射法制备SmCo薄膜,研究了退火温度对薄膜微结构及磁性能的影响.XRD分析结果表明,当退火温度为600℃时,SmCo5相析出,......
SmCo合金具有极高的单轴磁晶各向异性，成为未来高密度磁记录介质的候选材料之一。本文采用磁控溅射方法，在玻璃基片上制备了Cr（100nm）／S......
用直流磁控溅射方法制备了SmCo薄膜,通过正交设计实验考察了工艺因素对薄膜沉积速率的影响规律.研究结果表明,影响薄膜沉积速率的......
通过多靶射频磁控溅射系统在玻璃基片上制备了SmCo／Cu磁性薄膜．采用控制变量法优化了磁性层溅射工艺参数，制备出了矫顽力高达2400 Oe......
采用不同的直流磁控溅射工艺, 制备了SmCo薄膜.分别用能谱(EDAX)和俄歇谱仪(ASE)对薄膜的平均成份和表面到内部成份分布进行了分析......
采用磁控溅射方法,在玻璃基片上制备了Cr/SmCo/Cr结构的SmCo薄膜,实验结果表明：在低Sm含量（20.5%（原子分数））和高Sm含量（大于30.7%）的SmCo......
用多靶射频磁控溅射系统在玻璃基片上制备了SmCo磁性薄膜。并采用控制变量法研究了溅射功率、溅射时间以及溅射气压等工艺参数对薄......
采用射频磁控溅射方法在玻璃基片上制备了SmCo磁性薄膜,并重点研究了溅射功率、溅射时间以及溅射气压等工艺参数对薄膜磁性能的影......
为了实现超过1Tbits/in2的磁记录密度,同时保证具有高的信噪比和热稳定性,必须研制具有更高矫顽力的垂直磁记录介质。SmCo系列薄膜......
