中频磁控溅射相关论文
在严苛海洋环境下，传统单一的Ti掺杂类金刚石薄膜（DLC）无法满足减摩耐磨及耐腐蚀性能的要求，仍需进一步探索。为促进DLC薄膜在严苛海洋......
乳化液泵作为煤矿机械中的常用设备,是一种能把机械能转化为液压能的能量转换装置,它的正常运行是煤矿安全生产的一个关键因素。由......
3D显示技术自问世以来就一直备受关注,并且逐步融入人们的生活。发展至今,3D技术在影视娱乐、医学影像、智能驾驶等多个领域的应用......
分别利用中频磁控溅射(MFS)方法和微波电子回旋共振(ECR-MW)等离子体方法制备了Yb:Er共掺AlO薄膜,研究了氧气与氩气比例、样品荧光......
用中频磁控溅射方法（MFS）在SiO2/Si基底上制备了五组固定掺铒浓度不同镱铒浓度比率的镱铒共掺Al2O3薄膜样品。优化了实验参数,扫描电......
随着近几年光伏产业的迅速发展，如何增加太阳电池生产的安全性和减少太阳电池生产过程中的污染和耗能逐渐成为人们研究的课题之一。......
利用中频磁控溅射技术制备了Ti-Si-C三元碳基纳米复合薄膜，考察了沉积条件对薄膜微结构、组成和性能的影响，研究了薄膜微观结构与薄......
氮化铜薄膜在光存储材料、电子元器件以及高速集成电路等不同领域具有潜在的应用价值,其特殊的结构、热学、电学、光学性能日益受......
由于膜基附着力不好,膜层脱落问题是工业生产中磁控溅射镀制黑膜最常见的问题。本实验采用阳极线性离子源和霍尔点源辅助磁控溅射......
使用中频磁控溅射方法进行正交实验,在Si基底上沉积非晶硅薄膜。利用n&k测试、拉曼光谱和XPS等方法表征,研究工作气压、电流、衬底......
利用中频磁控溅射法在普通玻璃衬底上沉积掺铝氧化锌(ZnO ∶ Al,简称AZO)薄膜,通过调整溅射功率密度参数得到沉积速率与功率密度之......
采用Ti靶电弧离子镀与Al靶中频磁控溅射相结合的复合工艺,分别在单晶硅抛光面和高速钢抛光面两种基体上成功地制备了TiAlN薄膜样品......
设计了-套阳极层离子源辅助中频磁控溅射装置,并在Si(111)衬底上沉积AIN薄膜.用X射线衍射、原子力显微镜和扫描电镜分析了AIN薄膜......
采用中频磁控溅射结合无灯丝离子源技术沉积梯度Cr/CrN/CrNC/CrC膜层,设计两组正交实验对膜层中界面Cr层及梯度层沉积的工艺参数对......
采用新型中频磁控溅射技术及多弧离子镀相结合的复合镀膜工艺，在硬质合金YT14基体上制备了MoS2／Zr复合薄膜。采用扫描电子显微镜（SEM）......
采用中频磁控溅射技术及多弧离子镀相结合的复合镀膜工艺,在硬质合金YT14基体上制备了MoS2-Zr复合薄膜。采用扫描电子显微镜(SEM)......
采用SP0806AS中频磁控溅射镀膜机，在硅（100）和高速钢基体上，采用双石墨靶在不同功率下沉积了类金刚石薄膜。研究表明，在功率为5～7kW下薄......
以常见的几种高速钢和硬质合金为基体材料，运用有限元软件分析了基体表面MoS2软涂层的残余热应力。结果表明：高速钢表面涂层的最大残......
采用LABVIEW软件控制N2气体流量，辅助中频磁控溅射制备不同占空比的（Al，Ti）N周期性多层膜，分别利用x射线衍射仪、场发射扫描电镜、纳米......
为改善DLC膜的内应力及导热问题,采用ECR微波等离子体化学气相沉积及中频磁控溅射的方法制备掺Cu类金刚石膜,研究溅射电流对薄膜中......
用中频磁控溅射工艺分别制备了掺铒Al2O3薄膜和镱铒共掺Al2O3薄膜,室温下测量了它们的光致发光特性.结果表明:镱铒共掺Al2O3薄膜光......
采用中频磁控溅射法在玻璃基体上制备Al掺杂ZnO薄膜（AZO）,分别利用扫描电子显微镜（SEM）、原子力显微镜（AFM）、X射线衍射仪（XRD）、分光光度......
太阳能集热器是太阳能热水器的核心部件,平板集热器可以作为建筑材料与建筑完美融合,满足城市对太阳能的利用与建筑一体化的要求.......
采用中频磁控溅射技术及多弧离子镀相结合的复合镀膜工艺，在硬质合金YT14基体上制备了MoS2-Zr复合薄膜。观察了MoS2-Zr复合薄膜表面......
使用中频磁控溅射法制备了具有光学减反射与电学钝化的复合功能的氮化硅（SiNx）薄膜,并对其结构和性能进行了综合研究。结果表明：在常......
用热丝弧光放电离子源辅助的中频磁控溅射装置在单晶硅和渗氮钢质活塞环上沉积CrN涂层,并用X射线衍射、原子力显微镜和电子显微镜......
采用中频磁控溅射和多弧离子镀相结合的工艺在M2高速钢麻花钻表面沉积制备了MoS2/Zr复合涂层,考察了复合涂层的表面形貌及力学性能......
作为红外窗口的保护层,含氢非晶碳膜（a-C：H）是薄膜材料研究的热点。本文利用中频非平衡磁控溅射技术,以氩气和甲烷混合气体为工作气体......
用内外靶配置的多弧-磁控溅射技术在单晶硅和硬质合金上制备Ti-Si-N纳米复合涂层,研究衬底偏压和Si靶溅射电流对涂层结构和力学性......
采用中频磁控溅射技术在单晶硅表面制备含铝类金刚石（Al-DLC）薄膜，利用原子力显微镜、X射线光电子能谱仪、红外光谱仪、纳米压痕仪和......
刀具表面涂覆MoS2固体润滑涂层能够降低刀具在切削过程中的摩擦力，改善切削工况，然而存在涂层硬度低、高温下性能衰减快等缺陷。文中......
ZnO：Al（ZAO）薄膜的光学、电学以及结构特性与衬底温度有关，以掺杂质量2％Al的Zn（纯度99．99％）金属材料做靶，采用中频磁控溅射技术研究衬底温度......
设计了一套阳极层离子源辅助中频磁控溅射装置，并在Si（111）衬底上沉积AIN薄膜。用X射线衍射、原子力显微镜和扫描电镜分析了AIN薄膜的......
二氧化硅薄膜具有折射率低、消光系数小、附着力强、在可见光和近红外区域均为透明等特点,是一种理想光学薄膜,被广泛的应用于微电......
采用中频磁控溅射法在z轴石英基片上制备了（002）择优取向的AlN薄膜。采用X线衍射仪（XRD）、扫描电镜（SEM）表征了AlN薄膜的择优取向和表面......
为了解决复杂环境下玻璃不耐腐蚀,致密性不理想的问题,以直流脉冲离子源辅助中频磁控溅射沉积在玻璃表面制备了纯锆镀层和氮化锆镀......
手机后盖复合板(一种PMMA+PC复合材料)镀膜主要是在真空环境下常温沉积多层无机镀复合板料,各层不同折射率/厚度的材料在光的干涉......
采用中频磁控溅射法,在硅基上制备了X波段薄膜体声波谐振器(FBAR)滤波器用AlN压电薄膜。对AlN薄膜进行了分析表征,结果表明,AlN压......
为了制备用于挠性电路板中的挠性覆铜板,在聚酰亚胺上使用中频磁控溅射方法制备金属Cu膜.实验中,通过改变制备温度、衬底偏压、制......
采用中频磁控溅射制备了WSx薄膜,通过X射线衍射（XRD）、场发射扫描电子显微镜（FESEM）、原子力显微镜（AFM）和X射线光电子能谱（XPS）对其结构进......
本文通过电弧离子镀一中频磁控溅射复合沉积的方法，采用独立的纯Ti靶和纯Si靶在YS8硬质合金基体上制备了TiSiN涂层。并研究了其化学......
<正>(接2017年第5期第80页)(2)中频溅射的沉积速率高。对硅靶,中频反应溅射的沉积速率是直流反应溅射速率的10倍。比射频溅射高五......
采用中频磁控溅射及多弧离子镀相结合的复合镀膜工艺,在硬质合金YT14基体上制备了MoS2/Zr复合薄膜.采用扫描电子显微镜(SEM)考察了......
采用Ti靶电弧离子镀与Al靶中频磁控溅射相结合的复合工艺,通过调节Al靶电流,在不锈钢基体上制备了TiN薄膜和TiAlN薄膜样品,并在热......
在普通玻璃衬底上利用掺杂2%（质量）Al2O3的ZnO陶瓷靶材在中频磁控溅射设备中制备了掺铝氧化锌（ZnO∶Al,AZO）薄膜。利用XRD、XPS、紫外......
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在硬质合金与金刚石薄膜之间添加碳化物过渡层是制备高质量金刚石薄膜,提升星际钻探等领域工具使用性能的有效方法。目前常用的高......
