光学掩模相关论文
本文模拟和讨论当光学掩模在电子束曝光过程中由于电子束能量沉积所引起的光刻胶及衬底的温度变化.模拟采用6英寸的石英掩模,PMMA......
德国海得堡公司推出一种紫外激光扫描装置。通过将紫外激光扫描装置及测长计功能一体化设计,可用一台装置实施多处理模片的细扫描......
激光光刻是加工微光学及二元光学掩模的主要手段。光刻的最细线宽对所加工的二元微器件性能起决定作用。本文导出了会聚的高斯光束......
美国的技术人员增加了虹膜识别的成像体积，使得该技术廉价易用，原型机将于明年问世。光学相位掩模使得虹膜识别更快更准确。该研究的......
一、前言作为长度测量仪器的激光干涉仪常用来测量大规模集成电路和光学掩模板等的微型图像中的线宽和间距。用于这种测量的激光......
介绍了研制的极坐标激光直接写入系统．该系统可用于二元光学掩模的制作．最大掩模直径为１００ｍ ｍ ；最细曝光线宽为１．０μｍ ；套准精度及自动调焦精度......
根据光学原理,可分辨的线宽与(λg)~(1/2)成正比。式中λ为光学系统的波长,g 为光学掩模与片子之间的间隙。假如我们使光刻机光学......
基于光学衍射原理而发展起来的新光学技术，应用于光学掩模设计，可制作逼近临界尺寸的微小元件和极高密度的集成电路芯片．波前工程学可......
光学掩模是微电子领域重要元件。对于光学掩模检测的方法已成为热门领域。本论文主要介绍以非透镜成像为主的检测方法。在众多成像......
5700-CDRT作为下一代光学掩模系统同时具有CD-SEM功能、DUV双束激光干涉器和俄歇光谱仪，可以同步进行极化光反射和在DUV-vis-NIR波......
目前看来，１９３ｎｍ与ｘ射线光刻技术都很希望应用到０．１３μｍ ０．１３μｍ以下的集成电路工业中去，而掩膜笃这两种光刻技术而言是非常重要的．本文对１９３ｎｍ光学掩模与ｘ射......
本文对极坐标激光直接写入系统进行了初步的研究，介绍了它的原理及结构，该系统可用于二元光学掩模的制作，具有加工孔径大、线宽小的特......
太阳敏感器是空间飞行器进行姿态确定和方位测定的重要器件，传统太阳敏感器大而重，无法应用到微小卫星特别是皮纳卫星上。介绍了基于......
1光掩模玻璃基板的定义及种类1.1光学掩模板的定义及分类1.1.1光学掩模板的定义光学掩模板,又称光掩模板、掩模板、掩膜版、光掩膜......
