光电学性质相关论文
本文研究了采用金属有机物化学气相外延方法(MOCVD)生长InGaN合金薄膜,分析了富Ga组分和富In组分InGaN合金的晶体结构和光电学性质......
量子点因其优良的光电学性质而备受关注，并被广泛应用于生物分析。近几年，众多研究者将量子点引入化学发光共振能量转移(CRET)体......
在液晶显示器件的发展中，液晶材料发挥着重要的作用。联苯类小分子液晶材料是其中非常重要的一种，近些年来，液晶显示技术水平显著提高......
CdTe具有良好的光电学性质和化学性质，因此成为制备高效率、低成本的多晶薄膜太阳电池理想的吸收层材料。本文针对CdTe薄膜，研究了其......
C60由于其特殊的π电子体系而具有较强电子接受能力,可以作为电子受体(Acceptor,简称A)与电子给体(Donor,简称D)通过共价键连接,形......
目前，能源的需求量越来越大。太阳能作为一种可再生能源，取之不尽，用之不竭。同时，太阳能也是一种巨大的无污染能源。太阳能电池设计简......
该论文探索出一种新的VO纳米微粉的制备方法-还原水解法,再以其产品为原料,辅以高分子材料进行铺膜.该制备方法的主要步骤为:以新......
In_2O_3基透明导电薄膜由于其独特的光学和电学性能：可见光区域的高透过、红外区域的高反射以及低的电阻率，而在光电器件特别是平板......
ZnO有许多优良的光学和电学特性,如：可见光区的高透过率,低的电阻率,强烈吸收紫外光,优良的压电和气敏特性等等；它已经广泛应用在透......
采用射频磁控溅射技术,室温下在PET柔性衬底上沉积不同厚度的掺锡氧化铟(ITO)薄膜,样品的结构、形貌和光电学性质分别用X射线衍射......
研究铜、铝作为银薄膜的缓冲层对银薄膜的光电学性质的影响.利用热蒸发技术在BK-7玻璃基底上沉积Ag(220 nm) /Al(20 nm)和Ag(220 n......
采用射频磁控溅射技术,室温下在PET柔性衬底上沉积不同厚度的掺锡氧化铟(ITO)薄膜,样品的结构、形貌和光电学性质分别用X射线衍射......
利用直流磁控溅射方法在BK-7基片上制备掺铝氧化锌（AZO）透明导电薄膜。研究氧气流量对薄膜电学和光学性质的影响，分析结构和光电学性......
研究铜、铝作为银薄膜的缓冲层对银薄膜的光电学性质的影响．利用热蒸发技术在BK-7玻璃基底上沉积Ag（220nm）／Al（20nm）和Ag（220nm）／Cu（20nm）薄膜......
利用射频磁控溅射在石英基片上沉积ZnO薄膜.为了研究氧分压对ZnO薄膜的结构和光电学性质的影响,在氧分压0.00,2.54,5.06,7.57 mPa......
透明导电氧化物（TCO）薄膜因其较低的电阻率和在可见光范围内的高透过率,在太阳能电池、平板显示器、透明电极、气体传感器等光电薄膜......
ue＊M＃’＃dkB4＃＃8＃”专利申请号:00109“7公开号:1278062申请日:00.06.23公开日:00.12.27申请人地址:（100084川C京市海淀区清华园申请人:清......
利用射频磁控溅射制备AZO薄膜,然后在常温下0.1%的盐酸水溶液中对薄膜进行化学腐蚀,系统研究了腐蚀时间长短对薄膜的表面形貌和光......
利用直流磁控溅射技术在BK-7基片上沉积掺锡氧化铟(ITO)透明导电薄膜.研究不同基片温度和氧气流量对薄膜的结构、电学和光学性质的......
通过射频磁控溅射技术在玻璃衬底上制备AZO薄膜,研究膜层厚度对AZO薄膜光电特性的影响。发现随着膜层厚度的增加,AZO薄膜在可见光......
利用射频反应磁控溅射法在玻璃基片上制备Al薄膜,并在Al膜的表面镀上一层AZO薄膜,通过在Al膜表面镀上一层薄的AZO薄膜以提高其稳定......
采用直流磁控溅射方法在石英基片上沉积铬薄膜.研究溅射功率、工作气压对铬薄膜结构、电学和光学性质的影响.利用X射线衍射仪、分......
石墨烯(Graphene)是一种新型的碳纳米材料，有着优秀的性能,尤其是其出色的光电学特性，如超高的电导率，较高的光透过率。单层石墨烯在......
基于联吡啶和1，4-二苯乙烯基苯的p-共轭电致发光材料的合成和性质研究 在有机电致发光器件的组成材料中，发光材料是必不可少的。......
分别用磁控溅射和热蒸发的方法,在空白石英基片上室温沉积厚度300 nm的银薄膜样品,研究不同制备方法对样品的微观结构和光电学性质......
采用磁控溅射法制备AZO薄膜,研究和讨论了溅射功率、溅射时间和溅射气压3个工艺参数对AZO薄膜光学和电学性能的影响。采用正交优化......
