凸角补偿相关论文
基于一种新的湿法刻蚀条件和新型的凸角补偿结构,以KOH溶液为腐蚀液,对单晶(100)Si材料进行了湿法刻蚀,获得了表面平整和凸角完......
从硅晶胞的空间原子结构出发,对（110）衬底进行研究,提出了针对（110）衬底上规则目标凸角结构的通用补偿方法.以（100）衬底上已提出的图形分......
针对单晶硅(100)晶面在氢氧化钾(KOH)腐蚀液中各向异性腐蚀时的削角问题,进行了一项凸角补偿实验。通过不同尺寸与形状组合的〈110......
在芯片级铷原子钟中，需要微腔体来承载Rb-87滤光泡，为此，提出了一种用于制作高品质微腔体的新技术。为了获得光滑的腔体侧面和避免腐......
在硅的腐蚀过程中,如果不对台面凸角加以补偿,会产生严重的削角现象.本文采用在凸角上补偿正方形掩膜的方法,通过实验得出要在TMAH......
给出了一种基于硅微加工技术的新型变形反射镜的设计和加工方法.变形反射镜镜面主体是由一定厚度的硅膜构成,硅膜上表面溅射有一层......
为了避免微加速度计在加工过程中，由于湿法腐蚀的各向异性而造成的凸角处产生削角现象，必须根据各个晶向的腐蚀快慢特性和腐蚀深度的......
本文主要研究了加速度传感器芯片的湿法加工技术,主要包括KOH腐蚀中凸角补偿图形设计,引线电极保护技术,TMAH腐蚀技术等内容。本文......
针对两种补偿结构探讨了硅的凸角腐蚀补偿原理，设计了补偿版图，并在KOH腐蚀液中进行实验验证，获得了好的直角凸面补偿效果。......
本论文设计的项目主要从校正光线穿过大气、光学设备时产生的波前畸变出发,分析自适应光学校正方法,提出自适应光学波前校正系统中......
本文研究制作了微镜反射型扭臂驱动结构的8×8MEMS光开关阵列。首先,通过(110)硅片在KOH溶液中的腐蚀特性研究,确定了制作光开关阵......
基于MEMS技术体硅工艺,提出一种新型大有效面积的连续变形反射镜的设计制造方法.依工艺流程中的实际情况与结果,分析了在制造过程......
根据正方形膜片的变形和应力分布情况,提出了一种硅微谐振式压力传感器敏感膜片的设计方法,设计了两种正方形间接连接式压力敏感膜......
在进行Si(100)台面腐蚀时,由于硅的各向异性腐蚀特性,凸角处呈现严重切削现象。凸角侧向腐蚀程度与腐蚀深度、腐蚀温度、腐蚀剂配......
本论文研究了两种微分析芯片的制作技术。首先,在第一部分中,基于一种新的湿法腐蚀条件和凸角补偿结构,以KOH溶液为腐蚀液,对n型单......
