氮化物薄膜相关论文
氮化物薄膜主要是指氮化镓(GaN)、氮化铝(AlN)、铝镓氮(AlGaN)第三代半导体薄膜材料,它们具有较高的禁带宽度、较大的击穿场强、高......
本文采用电弧离子镀技术,制备了(Ti1-x-yAly Six)N和(Zr1-xAlx)N薄膜,利用扫描电镜（SEM）能谱分析（EDS）X射线衍射（XRD）,显微硬度计,分析天......
采用磁控溅射技术在304不锈钢薄片与单晶硅片上沉积制备了一系列Ag含量不同的氮化物复合膜,利用一系列的检测设备对实验制备不同复......
TiN等金属氮化物薄膜因其良好的耐磨性和耐蚀性已在刀具和模具的表面处理领域取得了广泛应用，但随着高速精密加工技术的发展，尤其是......
基于硬质薄膜的研究现状,主要分析两种具有代表性的硬质薄膜—氮化物薄膜和类金刚石薄膜的最新研究进展及存在的主要问题,提出了本......
本文采用脉冲激光沉积(PLD)的方法制备了一系列的过渡金属氮化物薄膜，包括Co3N、Fe3N、N13N和Mn4N，并对薄膜的组成、表面结构、电化......
该论文介绍了几种氮化物薄膜的低温合成和对氮化物薄膜的性质研究.低温合成制备优质的氮化物薄膜的关键是低温条件下化合物的形成......
摘要实验利用单靶射频磁控溅射技术,在单晶硅基底上,制备了两个系列FeCrVTa0.4W0.4高熵合金氮化物薄膜,即FeCrVTa0.4W0.4氮化物成......
高分子辅助沉积法是近年来发展起来的一种薄膜沉积方法。该方法利用高分子与金属键合形成均匀稳定的溶液，将溶液涂覆在基片上后，通过......
使用多弧离子镀设备制备了AlTiN,CrN,TiN,ZrN薄膜,在850℃条件下,利用自行研制的高温界面摩擦试验装置对上述薄膜与熔融玻璃之间的......
在氮直流辉光放电等离子体中采用快电子和离子(N+2,N+)混合的蒙特卡罗模型,模拟研究了e+N2→N+/N+N+2e/e和N+2+N2→N++N+N2过程中......
用真空电弧熔炼法制备了AlCrNbSiTiV高熵合金,并将其作为靶材,利用直流反应式磁控溅镀法在T1200A金属陶瓷刀具或硅晶片上沉积了高......
铀（U）作为一种重要的战略核能源材料,广泛应用于核能和国防领域。铀化学性质十分活泼,极易发生腐蚀而影响其物理化学性质及核性能,因......
基于多元高熵合金思想制备的高熵合金氮化物薄膜由于多种元素相互混合,易于产生高熵效应、晶格畸变效应和缓慢扩散效应,使得该新型......
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<正>虽然采用应力工程技术可以通过增强迁移率实现令人难以置信的性能增益．但也会引起器件的可靠性退化。尤其是还必须把负偏置温度......
本文研究了氮化物薄膜的制备及离子注入对其性能的影响。通过研究并根据薄膜生长动力学,采用离子镀技术制备CrN/Cr双层膜和CrNx梯......
铝及铝合金的扩散连接英国范堡罗的英国宇航公共有限公司在美国专利ＮＯ．５３７６１８７中介绍了两块铝或铝合金部件的扩散连接方法，其步骤是在待连接的......
