NdFeB永磁体具有优异的磁学性能和商业价值,广泛的应用于电子、信息、通信等多个行业。而NdFeB永磁薄膜是现在永磁体薄膜领域的研......

双相纳米晶永磁材料以其优异的性能(如其理论磁性能可达1090kJ/m~3,高于任何一种单相永磁材料)引起广泛关注。其中如何制备具有高......

采用XAFS,XRD和DTA方法研究了Ni-B和Ni-Ce-B超细非晶态合金在退火过程中的结构变化及其结构与催化性能的关系. 活性结果表明,在退......

利用共焦显微喇曼光谱仪,对采用PECVD方法制备的非晶硅薄膜进行了退火晶化.晶化后薄膜的喇曼光谱表明,薄膜由非晶硅结构转变为微晶......

研究了非晶合金Fe73.5Cu1Nb3Si13.5B9(FINEMET)的激波晶化。与退火晶化比较，激波晶化具有一系列鲜明特征，这些特征是固态下扩散性相......

用XRD定量分析法并结合扫描电镜形貌观察,研究化学沉积高磷（13.3%）含量的Ni-W-P镀层在不同热处理条件下的晶化程度、晶粒尺寸及晶格......

采用射频磁控溅射在二氧化硅衬底上沉积一层厚度200nm的非晶In-Ga-Zn-O(IGZO)薄膜,并在IGZO膜层上沉积厚度分别为20nm、50nm、60nm......

研究了射频磁控溅射的Pb（Zr0.52Ti0.48）O3（PZT52/48）薄膜在退火晶化时,厚度对其结晶态及表面形貌的影响。首先利用Materials Studio软......

采用同步辐射EXAFS技术定量地研究化学还原法制备的Ni-B 和Ni-Ce-B超细非晶态合金中Ni原子的局域环境结构随退火温度升高而产生的......

与单晶硅材料相比氢化非晶/纳米晶硅(a-Si:H/nc-Si:H)不仅拥有较高的光吸收系数,还具备光学带隙、电导率可调和制备成本低等特点,......