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利用磁控溅射和阳光刻技术在玻璃基底上成功制备了不同厚度SnO2的表面传导场致发射阴极阵列,并测试其场致发射性能。X射线衍射和X......
本文提出了以玻璃为基质,以厚感光有机膜为铸模,利用光刻法制作大面积金属场致发射阴极阵列的新方法,对该方法的工艺结果进行了计算机......
提出了用氧化锡作为起伏层制作双薄膜型场发射显示器件,成功得到均匀稳定的发射,提供了一种以简单热蒸发工艺制造成本低廉的场发射平......
本文采用考虑空间电荷影响的空间电场计算程序,对场致发射进行模拟计算;初步研究了发射体的几何形状尺寸与其发射特性之间的联系。通......
采用真空磁过滤弧沉积(FAD)的方法制备的类金刚石(DLC)薄膜具有良好的场发射性能.通过离子束技术和微细加工技术可以实现DLC薄膜的......
Si-TaSi2共晶自生复合材料由于具有较低的功函数、良好的电传输特性和自生三维肖特基结等特点,被认为是具有良好应用前景的场致发射......
阴极阵列形貌是影响场致发射材料发光性能的关键因素。以Czochralski(Cz)法制备的Si-TaSi2共晶复合材料为场发射阴极材料,采用湿法腐......
本文主要研究利用氧化锡作为起伏层制作双薄膜型场发射显示(DF-SED,Double Film Surface Emission Display)器件,证明基于SnOx的DF......