光刻投影物镜相关论文
基于低成本半导体生产的需求,光刻机的产率和分辨率在过去几十年中不断提高。为了增加光刻分辨率,光刻投影物镜的曝光波长不断减小......
Ronchi剪切干涉采用扩展光源调制光场空间相干性，具有干涉仪结构简单、共光路、零条纹检测等优点，适合用于光刻机投影物镜波像差原位......
为了满足光刻投影物镜对轴向调节机构的调节行程大、精度高、结构紧凑等需求，基于三角形换向原理，设计了轴向调节机构。在调节机构中......
光刻投影物镜是光刻机的核心部件。为了保证投影光严苛的波像差要求，投影物镜内部具有可调整的动镜，以便实现对其位置姿态进行调整，以......
为了跟踪国际光刻设备的发展，介绍了工作波长为193nm国际主流光刻机的发展现状，对光刻机的核心一投影物镜的设计原理进行了分析，针对......
针对光刻投影物镜XY补偿镜调整量程小、调整精度高的特点，设计了一种XY微位移并联调整机构。首先，分析圆弧形铰链切口厚度、切口半径......
研究一种用于光刻投影物镜光学元件XY微调整的整体式柔性冗余并联机构。首先，给出了机构组成和工作原理。然后，根据圆弧形单轴柔性铰......
针对基于剪切干涉原理的光刻投影物镜波像差检测设备中相移测量的需求,设计了一种移相装置.该装置采用了桥式放大机构,获得了较大......
大口径光学元件的支撑技术是精密光学仪器的关键技术之一，在精密光学仪器的光学元件支撑中，多弹片支撑因其能使光学元件均匀受力且能......
深紫外光刻投影物镜是光刻机的核心部件,然而无论是照明光场偏振态的空间分布,还是光刻投影物镜自身的偏振像差都将改变光束的紧聚......
光刻投影物镜的透镜支撑形式决定透镜的面形精度,进而影响光学系统的成像质量。本设计为实现透镜面形精度优于5nm的RMS值,提出一种......
深紫外光刻机是现阶段极大规模集成电路制造业的主流关键设备,国内正开展工作波段193nm的90nm分辨率光刻机的自主研制。对于193nm......
X-Y向柔性调节机构应用于光刻投影物镜中光学元件X-Y方向偏心位置补偿。基于柔性铰链，设计柔性二级减速机构，并将之应用到新型的一体......
由于光刻投影物镜装调中电容传感器的线性度指标不能够满足位移调节精度的需求,本文提出了一种提高电容传感器测量线性度的方法。......
针对极大规模集成电路的发展,国内极大规模集成电路产业化需要,满足极大规模集成电路制造装备研发技术需求,开展了面向高数值孔径......
光刻投影物镜中透镜的面形精度是影响光学系统成像质量的关键因素之一。为实现透镜面形精度均方根(RMS)值优于2nm的高精度指标,提......
光刻投影物镜中透镜的面形精度是影响光学系统成像质量的关键因素之一。为满足透镜面形精度RMS值优于1~2 nm的指标要求,本文提出了......
在分析光栅横向剪切干涉仪典型结构及系统参数配置,给出其适用范围的基础上,系统研究了该干涉仪结构最显著的系统误差:几何光程误......
为了设计光刻物镜的支撑结构,建立了支撑应力对透镜透射波前影响的模型,研究了该模型中支撑应力与折射率的关系及支撑应力对透镜透......
一种用于印刷电路板(PCB)的激光直接成像(LDI)光刻设备,需要加工高密度互连(HDI)基板的厚度变化范围为0.025~3mm,为此设计了一种共......
透镜材料对激光能量的吸收导致深紫外光刻投影物镜温度升高,产生热像差。离轴照明模式下,温度呈非对称分布,研究温度场对热像差的......
在分析Ronchi相移剪切干涉仪典型系统参数的基础上,系统研究了该干涉仪相位提取精度的主要影响因素。结合传统的五步相移算法,采用......
