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采用Si+注入到埋氧化层中并退火制备了总剂量加固的全耗尽SIMOX材料，对得到的样品在辐照前后的pseudo-MOSFET特性曲线进行了研究。......
MOSFET总剂理加固强烈依赖工艺技术，对干氧方式下没条件制备的NMOS、PMOS管，分析其辐照响应，并借用亚阈值I-V技术分离氧化陷阱电荷和......
通过分析VDMOS产品总剂量和单粒子的失效机理,提出了相应的总剂量和单粒子加固方案,同时对具有抗辐照要求的VDMOS在终端设计和管芯......
