CMP浆料相关论文
介绍了用于钨双嵌入和钨栓CMP工艺的新型CMP3200TM氧化铝浆料,测试证明,这种浆料在110 nm技术节点的钨CMP工艺应用中取得了理想的......
现已开发出了用于浅沟道隔离(STI)、铜CMP和低k介质的新型材料.90 nm以及下一代技术节点的新型器件要求在软接触CMP条件下减少缺陷......
叙述了新一代CMP浆料的过滤工艺和方法.低比重和极小平均粒子尺寸的二氧化硅、氧化铝及氧化铈磨料在这些浆料中要求严格地控制在0.......
纳米SiO_2以其独特的性能已广泛地应用于化学机械抛光(Chemical Mechanical Polishing,CMP)以及涂料、橡胶、粘合剂、生物、医学、......
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为确定配制稳定的纳米γ-Al2O3化学机械抛光(CMP)浆料的工艺条件,通过润湿性、Zeta电位及黏度的测定,研究了溶液pH值及添加分散剂......
<正>电子化学品特种气体业务也同样受到了影响。一年前,新一代晶片生产装置的建立使得NF3一直处于供不应求的状态。现货价格达到57......
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