合金靶材相关论文
利用射频磁控溅射方法制备了具有CoSi2成分的非晶薄膜。分析测试表明,薄膜中元素分布均匀,与靶材成分基本吻合。利用X射线衍射仪(XRD)......
本文采用合金靶材进行磁控溅射制备CoSi2薄膜,对CoSi2薄膜的成分组织结构性能跟溅射参数的关系进行了分析,研究了非晶CoSi2薄膜晶化......
<正>事业部以航天用粉末冶金材料的研制生产技术为依托,利用军用产品的研究成果和技术优势,开展高纯高性能溅射靶材的研发和生产工......
江苏省冶金研究所本着“引进、消化、吸收、提高”的方针,于1986年初着手研制低阻合金靶材,经过近一年的努力,初步试制成功。目前......
Ni-V合金靶材无磁性。该合金由真空熔炼制成,压力加工后晶粒得以细化。靶材的尺寸为Φ225×12.7mm及276×136×9mm。合金的纯度为99.7%。磁性材料镍中添加钒有利......