合金靶材相关论文
江苏省冶金研究所研制的 B1低阻合金靶材,于5月13日在南京通过冶金部、电子部的联合鉴定。B1低阻靶材是供八十年代从美国引进的 T......
美国ＮＡＳＡＧｌｅｎｎ研究中心开发成功一种表面具有溅射金属涂层的氧化铝纤维,利用这种预涂层纤维增强金属基复合材料可以大大改善其强度特性。通......
Co-Cr-Ta合金薄膜是一种重要的磁记录介质,目前广泛应用于磁记录领域。Co-Cr-Ta合金具有铁磁性,有高的磁导率。对于铁磁性靶材来讲......
Ａｌ－Ｔｉ合金薄膜具有优良的综合性能，近年来应用于包括半导体工业和光盘工业等诸多领域。合金靶材的组成和显微结构直接影响着合金薄膜的性......
本文采用合金靶材进行磁控溅射制备CoSi2薄膜，对CoSi2薄膜的成分组织结构性能跟溅射参数的关系进行了分析，研究了非晶CoSi2薄膜晶化......
超高纯度(＞99.9999 wt％6N)或高纯度(＞99.999 wt％5N)钨(W)可提高灯的性能和使用寿命,在高强度放电(HID)灯里作为重要的电极材料.另......
<正>事业部以航天用粉末冶金材料的研制生产技术为依托,利用军用产品的研究成果和技术优势,开展高纯高性能溅射靶材的研发和生产工......
江苏省冶金研究所本着“引进、消化、吸收、提高”的方针,于1986年初着手研制低阻合金靶材,经过近一年的努力,初步试制成功。目前......
Ｎｉ－Ｖ合金靶材无磁性。该合金由真空熔炼制成，压力加工后晶粒得以细化。靶材的尺寸为Φ２２５×１２．７ｍｍ及２７６×１３６×９ｍｍ。合金的纯度为９９．７％。磁性材料镍中添加钒有利......
