形核密度相关论文
化学气相沉积（chemical vapordeposition，CVD）金刚石具有优异的力学、化学、热学、声学和电学性能于一体的材料，在高科技领域有着广泛......
在等离子体辅助化学气相沉积金刚石的设备中,在Si(111)基体上进行沉积金刚石薄膜的实验。在沉积实验之前,首先用细砂纸将硅片打磨5......
学位
本文主要以乙醇为碳源，在热丝化学气相沉积设备中制备金刚石薄膜。围绕金刚石薄膜的形核与生长，研究了乙醇用量、基体温度、反应压强......
Zr是高强耐热铝合金中理想的合金化元素,Al-Zr合金中立方L1_2结构Al_3Zr析出相在400℃下可以保持动力学稳定,保证合金的高温强度,......
薄膜生长机制是薄膜科学研究的重点内容之一。实验上可以利用扫描隧道显微镜(STM)和原子力显微镜(AFM)等来观察薄膜形成过程中表面......
本文重点对近年硬质合金基体表面预处理方法及其对CVD金刚石膜沉积的影响进行了综述。按其原理来分,预处理方法可分为物理预处理法......
采用元胞自动机法建立ULCB钢焊接熔池凝固过程的宏微观耦合模型,模拟非均匀温度场下焊接熔池凝固过程的组织形貌演变和溶质场分布,......
使用热丝CVD装置在钢渗铬层、三氧化二铝、YG8硬质合盒基底上沉积了金刚石膜、结果表明，在700～900℃温度范围内，热稳定性好的基底材料......
对铸造Al-11Si-0．35Mg合金时效过程动力学进行了分析。根据升温差热扫描量热分析（DSC）曲线，利用动力学方程计算出了过渡相β′析出激活......
微观结构对金刚石涂层硬质合金的结合性能具有重要影响。本文采用酸碱二步腐蚀法预处理WC-Co基体,使用热丝化学气相沉积(HFCVD)设......
采用微波等离子体化学气相沉积(CVD)法在WC-Co硬质合金基体上制备金刚石膜,研究了TiNx中间层的引入对金刚石薄膜质量及其附着性能......
采用微波等离子体CVD(MPCVD)法在YG6硬质合金基体表面沉积金刚石涂层,在金刚石的形核和生长阶段分别采用不同的沉积条件,研究了分......
在钢渗铬层和硅片上进行了化学气相沉积金刚石膜,发现在渗铬层上形成的金刚石膜以球形金刚石为主;用高倍扫描电子显微镜分析显示,......
电工钢,特别是取向硅钢的制造工艺和设备复杂,成分控制严格,影响性能的因素众多,因此常把取向硅钢产品的品质看作衡量一个国家特殊......
采用热丝化学气相沉积法（HFCVD）在硬质合金基体上进行金刚石的形核生长,使用扫描电镜（SEM）对金刚石涂层形核情况进行分析,研究了不同形......
采用Cu和Cu/Ti作过渡层研究了硬质合金基底上金刚石薄膜的形核生长.Cu/Ti作过渡层明显的提高了金刚石在硬质合金基底上的形核密度.......
金刚石薄膜具有硬度高、热导性好、禁带宽度大、化学稳定性好等一系列优异的特性，使得其在许多高新技术领域有着广阔的应用前景。CV......
在2 kW微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)装置中,采用CH4和H2作气源,在最佳生长工艺参数条件下,可重复制备出高质量的金刚石薄膜。......
制备金刚石薄膜的技术是获得金刚石薄膜的高密度形核和高质量金刚石薄膜的关键因素，而改善金刚石薄膜与基体的结合力在金刚石涂层刀......
以α-Al2O3为原料,采用碳热还原氮化法合成AlON粉体,利用活性炭和亚微米碳粉改变球磨后一次粉体（α-Al2O3和C混合粉体）的形核密度,并......
本文采用热丝化学气相沉积（HFCVD）方法,以甲烷和氢气为气源,在金属钼基体上沉积金刚石薄膜。使用扫描电镜（SEM）和X射线衍射（XRD）对薄膜样......
本论文详细地介绍了金刚石薄膜的结构、性质及其应用和常见的几种制备金刚石薄膜的化学气相沉积法。 本文详细介绍了自行研制的......
在铸件凝固过程中,晶粒组织的控制是非常重要的,晶粒组织对铸件质量和力学性能有显著的影响。以前,主要依靠半经验公式和实验来控......
采用基体自形核法,研究了光滑铜基体表面超声研磨预处理对基体表面CVD单晶金刚石微粉沉积的影响。研究结果表明：未经超声研磨预处理......
采用透射电镜、扫描电镜、三维原子探针等手段研究Al-Zr-Y合金的时效析出行为及Y含量对合金性能的影响规律。结果表明：Al-Zr-Y合金......
