热丝化学气相沉积法相关论文
场发射显示器是最具潜力能提供优质图像和综合性能的平板显示器之一。在场发射显示器的研究过程中,对阴极研究的热度一直不减。其......
本文采用热丝化学气相沉积法，研究了氮气、氩气、氦气以及氩氮混合气体对纳米金刚石(Nano-crystalline Diamond,NCD)薄膜的生长速率......
金刚石膜因其优异的性能而具有广阔的应用前景。箔材基体上沉积金刚石膜具有厚度薄、柔性高、重量轻、面积大、效率高等特点,因此,......
在HFCVD系统中施加栅极偏压和衬底偏压，采用双偏压成核和栅极偏压生长的方法成功制备了高质量的纳米金刚石薄膜。采用显微Raman高分......
采用热丝化学气相沉积法在硅表面制备硼掺杂金刚石电极薄膜,在800℃热处理氧化刻蚀后,得到表面具有不规则孔隙结构的多孔硼掺杂金......
为调整微钻表面金刚石薄膜的晶粒尺寸和粗糙度以满足PCB板钻孔的工况要求,调节氩气和氢气流量比,采用热丝化学气相沉积法,以甲烷、......
研究硅掺杂对CVD金刚石薄膜形貌、结构特性和成分的影响。通过向丙酮中加入正硅酸乙酯作为反应气体，在硅基底上沉积硅掺杂CVD金刚石......
以氢气和正硅酸乙酯为反应源,采用前驱体裂解的方法在硬质合金基体上制备非晶SiO2（a-Si O2）薄膜。X射线衍射（XRD）分析表明,非晶薄膜与......
探讨了自支撑金刚石厚膜片的晶体生长模型,并依据模型通过热丝化学气相沉积（HFCVD）法制备了厚度为0.6 mm的自支撑金刚石厚膜片.采用......
以甲烷和氢气的混合气体为原料,用热丝化学汽相淀积法,在(100)硅衬底上800℃温度时异质生长出适合场发射的金刚石薄膜.然后用扫描......
用热丝化学气相沉积法在硅基体上制备了大面积硼掺杂金刚石薄膜,硼的浓度大约为2×1020/cm3.利用纳米压痕仪及其附件研究了薄......
使用热丝化学气相沉积法（HFCVD）在硬质合金片以及球头铣刀表面沉积了微米金刚石薄膜（MCD），纳米金刚石薄膜（NCD）以及微米纳米复合金刚石薄......
研究硅掺杂对CVD金刚石薄膜形貌、结构特性和成分的影响。通过向丙酮中加入正硅酸乙酯作为反应气体,在硅基底上沉积硅掺杂CVD金刚......
本文利用热丝化学气相沉积法(HFCVD)，在硅片衬底上进行微米级(>1μm)及亚微米级(...
利用热丝化学气相沉积法(HFCVD)在硬质合金立铣刀上沉积金刚石薄膜,通过扫描电子显微镜和拉曼光谱仪对制备的薄膜进行表征,并利用......
用热丝化学气相沉积法(hot filament chemical vapor deposition,HFCVD)制备金刚石涂层刀具时,衬底温度对金刚石涂层分布的均匀性......
采用热丝化学气相沉积法(HWCVD),以高纯SiH 4、H 2作为反应气源,N型(100)的单晶硅片和Corning 7059玻璃片作为衬底来制备多晶硅薄......
建立了热丝CVD大面积金刚石膜沉积的衬底温度场模型,对影响衬底温度场的接触热阻及其他相关沉积参数进行了模拟计算。根据实验结果......
以钨丝作为基体，用氢气和丙酮作为反应气体，在热丝化学气相沉积装置中制备出了金刚石管，其生长速度达到了4μm／h．扫描电镜和激光拉曼光......
在20世纪70年代，随着增韧氧化锆陶瓷的成功研制，极大的扩展了氧化锆在新型陶瓷材料中的应用。作为结构陶瓷以及功能陶瓷中的佼佼者，氧......
金刚石材料无与伦比的优异性能已经引起了人们的广泛关注。近年来,出现了各种各样人工合成金刚石的方法。随着人们对低压CVD合成金......
采用基体自形核法,研究了光滑铜基体表面超声研磨预处理对基体表面CVD单晶金刚石微粉沉积的影响。研究结果表明：未经超声研磨预处理......
