沉积工艺相关论文
对三包层的大负色散、负色散斜率的色散补偿光纤进行了理论研究，分析了各个参量对色散曲线的调节作用，发现色散补偿光纤只有在一定范......
讨论了在单晶锗上为获得单波段（３～５μｍ）及双波段（３～５μｍ、８～１２μｍ）兼容ａ－Ｃ：Ｈ增透膜所必需的膜系设计，及用椭偏法对该膜进行的增透结果分析。结果表明，ａ－Ｃ：Ｈ膜是理......
研究了溶液的组分及操作条件对Ni－Mo－P合金形成的影响，以得到合适的沉积工艺。试验结果表明，pH=5.6，t=90℃，溶液中的Ni2+/MoO42-=13.9～16.......
自沉积涂饰,不耗电,不须磷化处理,主要应用于单层涂饰工艺。最近10年里,漆料自沉积工艺已从实验室试验发展为具有投产价值工艺,世......
超级电容器是一种新型的储能装置,能量密度高、循环稳定性好、充放电速率快、环境友好,在通讯设备、航空航天、移动电子、交通设施......
低温各向同性热解炭由于具有优异的生物相容性和良好的机械性能,特别是在沉入硅后,还具有较高的强度以及耐磨性,被认为是制作人工......
近年来，电化学高级氧化技术在有机废水的处理领域越来越受到重视，这种方法不同于传统的水处理方法，具有较高的电氧化效率、易于操作和......
金刚石具有优异的力学、热学、光学、电学和声学性能。对金刚石的研究已成为物理和化学界的研究热点。直流等离子喷射化学气相沉积......
润湿性能是固体表面的重要特征之一,无论在人们的日常生活还是在工农业生产中它都发挥着重要的作用,如防雪﹑防污染﹑抗氧化和防止电流......
微波等离子化学气相沉积（MPCVD）因为其无电极污染及等离子密度高而被作为制备高品质金刚石膜的首选方法。但是在高功率 MPCVD装置研......
本文采用激光分子束外延法在Si(100)衬底上制备立方AlN薄膜，系统研究了沉积工艺(主要是衬底温度、激光脉冲能量、N2分压)和TiN缓冲......
热解碳具有许多独特和优良的物理、化学和生物性质，而广泛用于核能、航天航空、电能、生物医学工程等领域，但其生成机理、性质和工艺......
温度传感器在现代测量技术中有着广泛的应用,其中热电偶,尤其是钨铼热电偶对高温测量有着极其重要的作用。但热电偶的材料极易在高......
基于有机铅三卤化物的钙钛矿太阳能电池作为新兴光电技术的代表,吸引了大量科研团体的关注。在钙钛矿太阳能电池的工作过程中,钙钛......
随着光学薄膜技术的不断发展,光学薄膜器件应用的日益广泛,光学薄膜器件的温度稳定性研究也被提到了极重要的地位.为了解决空间工......
近年来,纤锌矿结构的氮化镓(GaN)材料,由于可以制备高亮度蓝色与绿色发光二级管和紫外光电二级管、激光二极管、紫外光电探测器和......
电容器是一类基本电子元件,广泛应用于通信、电子、计算机、民用和军用电子产品中。目前,提高电解电容器用铝箔比电容的制备技术主......
介绍了弧光放电型离子镀A1000设备,研究了沉积MCrAlY高温涂层工艺,沉积参数对涂层质量、涂层成分及涂层性能的影响。研究结果表明,......
纳米金刚石薄膜具有优异的性能,已在多个领域获得广泛应用.但微波等离子体化学气相沉积制备的金刚石薄膜质量却严重受沉积工艺的影......
研究了镀液pH值和温度等工艺参数对化学镀Ni-Mo-P合金镀层耐蚀性和硬度的影响.试验结果表明,镀液pH值升高,镀层的沉积速度和硬度升......
本文研究了镁及镁合金的化学镀Ni—Cu—P工艺，找出了最佳的镀覆条件，并对镀层的组织结构及性质进行了测试，所得的Ni—Cu—P三元非晶态......
通过等离子烧蚀发动机、小型烧蚀发动机点火试验及微观结构观察,研究了由化学液相沉积制备的炭/炭复合材料的烧蚀性能,分析了其烧......
简述了两种涂层沉积工艺:化学气相沉积(CVD)和物理气相沉积(PVD),并介绍了CVD制备氧化铝涂层的现状;简述了涂层材料存在的力学问题......
采用超声-溶胶凝胶法在黄麻纤维表面原位沉积纳米SiO2,通过红外光谱分析,微观形貌分析以及沉积量测试,讨论了不同工艺参数对纳米Si......
不同沉积工艺得到的TiN涂层高速钢的物相主次不同,晶粒取向亦不同;通过实验分析得到以(111)晶面择优取向的试件表面原子密度最高,......
在以次亚磷酸钠为还原剂,硼酸为缓冲剂和柠檬酸钠为络合剂的碱性介质中,研究了镍-铁-磷合金化学沉积条件(pH值,温度及[Fe2+]/([Ni2......
针对目前获得的[100]织构金刚石薄膜大多存在非金刚石相含量较多、从而导致薄膜电阻率不高的欠缺,采用两种改进的微波等离子体化学......
STRUCTURAL PROPERTIES INVESTIGATION ON MICROCRYSTALLINE SILICON FILMS DEPOSITED WITH VHF-PECVD TECHN
Raman scattering spectroscopy and scanning electron microscopy (SEM) techniques were used to determine the structural pr......
在显示面板工艺中,高质量的氮化硅薄膜扮演重要角色,本文研究了利用等离子增强型化学气相沉积制备的氮化硅薄膜应力情况。通过改变......
镍基超合金Rene41是用激光熔融沉积工艺（LMD）生产的。这种LMD材料在1065℃，4h固溶，接着空淬，然后760℃时效16h，接着空冷。......
研究了切削过程中TiN涂层高速钢刀具的切削温度场分布特征及其生热、导热特征.通过试验证明了TiN薄膜的热学特征与其晶体结构类型......
采用不同沉积工艺得到的TiN涂层高速钢的物相主次不同;涂层宏观残余应力呈压应力状态,应力状态主要与膜/基材料的热力学性能的差别......
采用微波等离子体CVD(MPCVD)法在YG6硬质合金基体表面沉积金刚石涂层,在金刚石的形核和生长阶段分别采用不同的沉积条件,研究了分......
关于喷射成形高温合金，在SDMA2006国际会议上有一个主题报告，题名是“成核铸造——一种可能制造高温合金大型锭坯的喷射沉积工艺”（Nu......
以三元合金为基体的复合电沉积层综合了一般耐磨镀层的性能和所镶嵌的固体微粒的性能。为开发新型多元非晶态合金耐磨复合沉积层，以......
CVD金刚石薄膜刀具的表面粗糙度和加工过程中的切削用量是影响加工工件表面质量的关键因素.为改进CVD沉积工艺,减小金刚石薄膜表面......
电子束物理气相沉积具有很高的沉积速率和较好的工艺可重复性，基体温度是电子束物理气相沉积工艺中的关键因素。除热障涂层外，根据沉......
钨具有高密度（19.3 g/cm3）、适中声速（4.03 km/s）以及良好的延展性等特点,被研究学者广泛视为极具发展前景的药型罩材料。本课题组前期......
原子层刻蚀和沉积工艺利用自限性反应,提供原子级控制。潘阳博士分享了他对这个话题的看法。技术节点的每次进步都要求对制造工艺......
不久前,MEMS蚀刻和表面涂层方面的领先企业memsstar向《电子产品世界》介绍了MEMS与传统CMOS刻蚀与沉积工艺的关系,对中国本土MEMS......
主要概述了用MOCVD法制备金属铱涂层的原理以及工艺参数对制备涂层的影响,并对铱做保护层的铱/铼喷管的寿命进行了预测.指出MOCVD......
介绍了磁控溅射制备防锈MoS2薄膜的沉积工艺,同时对影响膜层性能的几个因素进行了初步的探讨,并且制备了防锈性能优良的MoS2薄膜样......
稠油热采井的监测一直是油井测试工作的难点,尤其是对注气剖面的测试,有助于了解吸气剖面的信息,确定油藏位置,优化注气质量具有重......
碳纤维增强复合材料（Carbon Fiber Reinforced Plastics，CFRP）因其轻质高强度低膨胀系数和良好的吸振性能等优点，广泛应用于航空航天领......
采用直流反应磁控溅射法,在不同O2/Ar分压比（1∶3、1∶4）,不同溅射功率密度（24、40、48W/cm2）及不同热处理温度（400、800℃）条件下制备出......
利用非平衡磁控溅射技术、扫描电子显微镜、X射线衍射仪和质谱仪等仪器研究了不同靶材、基体电流密度、靶电源特性和基体偏压等条......
