磷酸二氢钾晶体相关论文
本项目对机床工作状态下空气静压主轴的非线性动力学行为进行了分析,发现晶体加工表面的周期性微波纹与机床主轴的动态性能有关,着......
采用德国Trioptics公司生产的新一代全自动高精度折射率测量仪,测量了磷酸二氢钾(KDP)晶体不同部位的样品位于近紫外到近红外波段(......
约束方式和晶体温度是影响磷酸二氢钾(KDP)晶体性能的两个主要因素。晶体在约束条件下,温度的变化使晶体产生热应力和热形变,破坏......
采用原子力显微镜对35℃附近,在不同过饱和度下生长的KDP晶体(100)面生长台阶的推移进行了系统的研究,用激光偏振干涉手段实时测量......
【英国《新科学家》1980年10月16日报道】美国罗彻斯特大学的科学家们宣布,他们取得了一项重大的研究成果,即第一次用实验证实了......
本文研究了溶液循环流动法生长大截面ＫＤＰ晶体的工艺条件．发现影响晶体生长的关键因素是溶液的充分过热、流动体系的流量和生长相的温场......
介绍了大截面ＫＤＰ晶体在激光核聚变中的应用，并简述了该晶体的研究动态。...
1978年,我们用磷酸二氢钾浸向日葵种子,增产效果显著.1979年继续进行试验,结果是:200倍液的比对照增产18.8%,250倍液增产16%,300......
惯性约束核聚变装置中，由于使用强激光作为能量源，使光学元件具有很大的直径厚度比。大径厚比光学元件在力的作用下很容易产生面形畸......
磷酸二氢钾晶体中的缺陷对晶体的激光诱导损伤起着重要作用.晶体的激光诱导损伤限制了大功率激光系统的发展.本文用真空紫外光致发......
大口径KDP晶体是广泛应用于惯性约束核聚变领域的优质材料，但其具有一系列不利于光学加工的特点，它的加工一直是限制激光和非线性光......
磁流变抛光后的KDP晶体表面的残留物影响晶体的使用性能,晶体软脆、易潮解、易开裂的特点使其表面残留物难以去除。本文研究了抛光......
学位
磷酸二氢钾(KDP)是人们发现的最古老的非线性光学晶体之一，至今已有近80年的研究历史。该晶体广泛应用于激光变频、电光调制和光快......
KDP(磷酸二氢钾，KH2PO4)晶体是一种性能优良的非线性材料，具有较大的非线性系数、较高的激光损伤阈值，另外还有激光倍频效应、电光效......
晶体薄表面层生长现象是一种奇特的晶体生长现象,其有别于奇异面层状生长。众所周知,奇异面层状生长依靠台阶推移的方式吸附溶质分......
通过光学显微镜对点状籽晶法生长的KDP晶体（100）面位错蚀坑的观察和分析，发现柱区的位错线走向不同于片状籽晶法生长的晶体。晶体的位......
介绍了大截面ＫＤＰ晶体在激光核聚变中的应用，并简述了该晶体的研究动态。...
Potassium dihydrogen phosphate(KDP) is an important electro-optic crystal, often used for frequency conversion and Pocke......
大尺寸磷酸二氢钾(KDP)晶体在惯性约束聚变系统中主要用于制作变频及开关光学元件.在传统生长技术基础上,开展了点籽晶降温法大尺......
基于印压断裂力学理论分析了磷酸二氢钾晶体表面缺陷面积与中位裂纹深度的关系.在刀具参量和主轴转数一定的情况下,采用不同切削深......
<正> 在作空间发射的准备工作过程中,遇到雷击是十分危险的。探测器提供的信息可以预报雷电的危害,但预报的时间至关重要。 美国佛......
用基于第一性原理的CASTEP模拟了Ba替代K缺陷前后形成的电子结构和能态密度。发现晶体能带宽度降至6.4 eV左右,对应着380 nm的双光......
利用光学显微镜实时观测磷酸二氢钾（KDP）晶体柱面及锥面薄表面层的生长过程，测得不同过饱和度下薄表面层前端不同倾角的非正常棱边推......
磷酸二氢钾(KDP)晶体是一种优质非线性光学晶体,是当前唯一可用作惯性约束核聚变装置(ICF)、强激光武器等光路系统中的激光倍频和......
磷酸二氢钾(KDP)晶体是当前唯一可用作惯性约束核聚变装置(ICF)、强激光武器等光路系统中的激光倍频和电光开关材料,具有重要的地......
无磨粒化学机械抛光是一种柔和的表面处理方法,可以有效去除磷酸二氢钾(KDP)晶体表面的小尺度飞切刀纹。在抛光过程中不使用磨粒,K......
为了揭示磷酸二氢钾（KDP）晶体三倍频晶面微观弹塑性力学行为及加工性能,开展了纳米压痕研究。建立了KDP晶体三倍频晶面各向异性力学......
磷酸二氢钾晶体中的缺陷对晶体的激光诱导损伤起着重要作用.晶体的激光诱导损伤限制了大功率激光系统的发展.本文用真空紫外光致发......
本文研究了溶液循环流动法生长大截面ＫＤＰ晶体的工艺条件。发现影响晶体生长的关键因素是溶液的充分过热，流动系体的流量和生长槽的温场......
