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本文报导了紫外光擦除,电可编程序唯读存储器8KEPROM 的研制概况。介绍了器件特点,写入模型和擦除模型。并对电路进行了初步分析;......
本文将介绍紫外光擦除、电可编程序“唯读”存贮器—16KEPROM 的研制概况。重点介绍器件特点及制造工艺,提供存贮单元的写入机理、......
以偏离〈100〉面25.24°的硅〈113〉晶面为基底,采用氧化、光刻等平面工艺,在其上制成光栅常数为36μm的二氧化硅光栅图形作掩模,......
<正> 一、引言随着微计算机的不断发展,EPROM器件也得到越来越广泛的应用。同时,由于EPROM 器件具有不挥发性的特点,在存贮器领域......
针对SiC衬底缺陷密度相对较高的问题，研究了消除或减弱其影响的工艺技术并进行了器件研制。通过优化刻蚀条件获得了粗糙度为2.07nm......
