沉积设备相关论文
利用一台直流磁控溅射和多弧沉积设备在高速钢(HSS)衬底上沉积CNx/TiN多层复合膜,涂层的硬度超过50GPa.销-盘式磨擦试验研究了涂层......
本发明提供了一种利用磁控技术提高金刚石薄膜微波等离子体化学气相沉积设备沉积速率的方法和装置.该方法包含以下步骤：在微波等离......
我国国产的代表国际尖端水平的高亮度LED芯片生产关键设备MOCVD（金属有机化学气相沉积设备）在正泰集团上海张江理想能源设备有限公司......
近日，我国首台代表国际尖端水平的薄膜太阳能电池关键生产设备等离子体增强型化学气相沉积设备（PECVD）在上海理想能源设备公司（以下简......
性能可与国际一流设备媲美 售价仅为进口设备的一半 不久，一种更“给力”并实惠的能源将走入寻常百姓家。今天，首台代表着国......
日前，我国首台代表国际尖端水平的薄膜太阳能电池关键生产设备——等离子体增强型化学气相沉积设备（PECVD）在上海理想能源设备公司（下......
2015年1～8月13类半导体设备进口11109台，与去年同期相比增长17．4％，进口金额为30．56亿元，与去年同期相比减少8．5％。其中，化学气相沉积设备进口......
2011年1月8日，代表国际尖端水平的薄膜太阳能电池关键生产设备——等离子体增强型化学气相沉积设备（PECVD）在上海理想能源设备公司（下......
本实用新型涉及一种有机发光组件（organic light emitting device；OLED）的沉积设备，该设备具有一基板传输系统以及至少一腔体，其特征在......
2016年11月16日，应用材料公司宣布，其薄膜沉积设备已被京东方选中，用于京东方10.5代TFT—LCD生产线。京东方订购多台CVD和PVD设备，使用......
本发明揭示一种改善晶圆表面平坦度的方法，适用在一晶圆上以化学气相沉积法（chemical vapor deposition，CVD）沉积复数层的薄膜，包括：一晶......
一、项目概况MOCVD（Metal Organic Cheroical Vapor Deposition）材料生长装备，即金属有机物化学气相沉积设备，是化合物半导体外延材料......
8日，中国首台代表国际尖端水平的薄膜太阳能电池关键生产设备——等离子体增强型化学气相沉积设备（PECVD）在上海成功下线，这被视为中国......
近日，中国国产的代表国际尖端水平的高亮度LED芯片生产关键设备MOCVD（金属有机化学气相沉积设备）在正泰集团上海张江理想能源设备有限......
江苏法尔胜光子有限公司自2001年7月正式投产,迄今已有十五年发展历史。从当初年产15吨光纤预制棒到现在年产近150吨、从年产50万......
