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无显影气相光刻是我国首先发现的一项干法腐蚀技术。通过对其机理的不断研究发现，添加在光刻胶中的添加剂促进HF气体在高温下离解得......
该文对无显影气相光刻-一种新颖的高分辨率的微电子光刻技术和在光电子领域有广泛应用前景的导电材料聚苯胺进行了系统的研究.得到......
该论文在以前研究的基础上,对无显影气相光刻用了进一步的应用研究,并且从化学角度对其中的现象和结果作出了合理的解释.无显影气......
ＨＦ与ＳｉＯ２的反应是一种亲核取代反应，但高温下此反应不能发生，当涂覆在ＳｉＯ２表面的聚合物膜中含有某些特殊的有机化合物或超强酸时，可以促进该反应......
研究了聚合物在无显影气相光刻地过程中的作用，由此解释了无显影气相光刻过程中曝光区和非曝光区高腐蚀速度差，高分辨率和高腐蚀纵宽......
无显影气外光废是我国首先发现的一项干法腐蚀技术。通过对其机理的不断研究发现，添加在光刻胶中的添加剂促进ＨＦ气体在高温下得到活性......
ＨＦ与ＳｉＯ２的反应是一种亲核取代反应，但高温下此反应不能发生．当涂覆在ＳｉＯ２表面的聚合物膜中含有某些特殊的有机化合物或超强酸时，可以促进该反应......
二氧化硅与气相氟化氢的反应和与氢氟酸的反应不同,当温度高于100℃时,气相氟化氢与裸露的二氧化硅无明显反应,当二氧化硅表面涂上......
无显影气相光刻技术是我国在1980年发明的一种独特的光刻技术,具有不需要显影,分辨率高等优点.但它的机理并不清楚.本文介绍十多年......
