ITO膜相关论文
A new technique for rapid 3D microstructure preparation using micropipette is investigated. The tool electrode is made b......
晶体硅太阳能电池是目前光伏市场的主流产品。受材料和工艺的限制,晶硅太阳电池转换效率提高和成本降低的空间有限。近年来,在研究......
透明导电氧化物是具备良好的导电性和透过性的，这使得该类透明导电氧化物在平板显示、太阳能电池、气敏元件、薄膜电阻器、有机发光......
目前平板显示领域中,有机电致发光(OLED)显示器件是国内外研究的热点之一。OLED显示器件经常采用ITO膜作为有机发光的出射面和透明......
利用射频磁控溅射技术在有机玻璃表面上一次完成表面活化、ITO膜制备、SiO2 减反射膜制备过程。利用低能等离子体对有机玻璃表面进......
以InC l3.4H2O和SnC l4.5H2O为原料制备溶胶前驱体,采用浸渍提拉法在S iO2玻璃表面制备透明带电的ITO薄膜。采用方块电阻测量仪、......
采用溶胶-凝胶(sol-gel)法,利用自制的提拉实验设备于石英玻璃片上制得了ITO(indium tin oxide)透明导电薄膜,并就薄膜的物相结构......
利用直流磁控溅射法在树脂基复合材料基底上制备了ITO低红外发射率薄膜。选择了低发射率树脂作为基底复合材料的基体树脂。通过对......
首次尝试将ITO(Indium Tin Oxide)膜与微通道板(Microchannel Plate)结合用作位置灵敏探测器,并对该探测器的线性、位置分辨及探测......
采用溶胶-凝胶法以铟、锡氯化物为前驱物制备不同热处理温度下的ITO膜,对制备的ITO膜样品进行X射线衍射分析.研究表明热处理温度对......
以铟、锡氯化物为前驱物，采用溶胶-凝胶法在玻璃基体上制备不同锡掺杂的ITO膜，在热处理温度为450℃条件下制备不同锡掺杂（质量分数11％～3......
日本大阪市立工业研究所、巴制作所及奥野制药工业三家合作开发了氧化铟锡纳米颗粒胶，平均颗粒直径为15nm。把胶涂布在玻璃板上，在空......
采用了补氧直流磁控反应溅射工艺制备ITO膜,在不同基片加热温度和补氧流量下获得最低方块电阻值的最佳制备工艺.对制备的ITO薄膜进......
ITO膜具有很高的可见光透过性能和良好的导电性能。用直流阴极磁控溅射方法镀制的膜层，膜层致密，附着力强，与玻璃基片结合牢固。可根......
以In（NO3）3.·4.5H2O为主要原料,用乙酰丙酮作溶剂,掺加SnCl4·5H2O（铟锡物质的量比为10∶1）制得溶胶,以石英玻璃为基体用提拉......
在玻璃衬底上用直流磁控溅射的方法镀制ITO透明半导体膜, 采用X射线衍射技术分析了膜层晶体结构与温度和氧含量的关系, 并测量分析......
介绍了自20世纪90年代以来出现的深加工平板玻璃制品的基本性能、生产技术和发展趋势.建议我国加快新型深加工技术的研究、开发和......
在不同温度基片上采用阴极磁控溅射法在玻璃上镀ITO透明导电膜,采用X射线衍射技术分析样品的结构随温度的变化情况,测量了样品的方......
采用射频磁控溅射技术，在水冷的有机玻璃（PMMA）和聚乙烯对苯二甲酯（PET）柔性膜上，低温沉积ITO薄膜。研究了膜厚对其形貌、光电以及电磁屏......
采用离线法生产的ITO膜系镀膜玻璃,使用性能优越的氧化铟锡材料作为薄膜基础材料,设计合理的膜系,使得该玻璃具有辐射率低、可见光......
空间太阳电池阵通常采用玻璃盖片表面蒸镀ITO导电膜并互相连接实现表面的等电位设计。针对等电位设计需求,通过优化盖片表面蒸镀IT......
本文研究了银盐法制备透明导电膜的方法。该方法是通过对特制的银盐感光胶片进行曝光和显影加工,在聚酯片基上形成由金属银构成的......
对以铟、锡氯化物为前驱物,采用溶胶-凝胶法制备的掺锡氧化铟薄膜(ITO膜)样品进行了X射线衍射分析,研究了热处理时间对ITO膜的影响......
在室温下,采用直流反应磁控溅射法,在聚酯薄膜(PET)衬底上镀制了高性能的ITO薄膜。为了提高薄膜与基底的结合力,溅射前采用多弧离......
在玻璃衬底上用直流磁控溅射的方法镀制ITO透明半导体膜，采用X射线衍射技术分析了膜层晶体结构与薄膜厚度和氧含量的关系，并测量了薄......
用偏压磁控溅射法在水冷PPA(Polypropylene Ad ipate)聚脂胶片上制备了性能优良的ITO(Indium Tin Oxide)透明导电膜,对薄膜的光电......
论述了ITO膜的导电及生长机理，讨论了离子辅助(IAD)电子枪蒸镀ITO膜的方法中，膜的组分、氧分压、衬底温度和蒸发速率等几个参数对ITO......
触摸屏加工需要使用的导电薄膜材料主要以ITO导电玻璃和ITO导电薄膜为主,随着触控终端的轻薄化,PET导电膜的应用越来越广,目前常规......
采用直流磁控溅射法,分别用ITO陶瓷靶、In-Sn合金靶,在玻璃基片上镀膜。研究ITO透明导电膜其膜厚、靶材、溅射气压和溅射速率等工......
在有机材料柔性衬底上沉积ITO膜 ,需要在低温及无损伤 (即避免离子轰击及热损伤等 )情况下进行。为满足此要求 ,采用电子束蒸发法......
本文对所研究的直流磁控溅射法制备的ITO透明导电薄膜,采用X射线衍射技术进行了膜层晶体结构与薄膜厚度关系的分析,并测量了薄膜电......
介绍了制备氧化锌薄膜的几种主要方法,包括磁控溅射法、化学气相沉积法、溶胶-凝胶法、激光脉冲沉积法等;分析了氧化锌薄膜作为代......
本文以ITO膜作为加热元件,设计制备了大尺寸液晶显示器的低温加热模块。采用5个非等分的分区加热结构,通过调控各区域ITO膜加载功......
本文介绍了用铟锡（ＩＴ）合金靶和氧化铟锡（ＩＴＯ）烧结靶制备ＩＴＯ膜的特点；采用ＩＴＯ靶时溅射工艺参数对ＩＴＯ膜性能的影响；以及我们自行设计制造的ＴＤ－３６０型立式ＩＴＯ生产线的......
该文介绍了旋转磁控溅身和电弧离子镀技术的最新进展。论述了旋转圆柱磁控溅射靶Ｃ－Ｍａｇ、孪生磁控溅射靶Ｔｗｉｎ－Ｍａｇ和旋转磁控柱状弧的特性及其应用......
针对目前TFT-LCD行业生产过程中产生大量的电子垃圾,且在处理过程中普遍存在附加值低的问题,综述了当前TFT-LCD行业中废弃面板的资......
武器装备透明器件上制备透明导电薄膜以达到电磁屏蔽、防止信息泄漏的目的,同时要求具有较高的机械强度以满足作战环境的需要。本......
研究了采用直流磁控溅射法制备ITO透明导电膜时温度、靶材、氧压比、溅射气压、 溅射速率等工艺条件对ITO膜电阻率和可见光透过率......
采用离子束辅助沉积方法进行膜层的制备;选用合适的色散模型,利用包络法和椭偏仪对制备薄膜的光学常数进行拟合;利用单纯形调优数......
讨论了ＩＴＯ膜的湿法蚀刻特性，得出了有关蚀刻速率的定量关系；比较了ＩＴＯ膜的不同配比的蚀刻液，并指出了加热至５０℃￣６０℃的、体积比为５０：（３￣９）：５０的ＨＣｌ和ＨＮＯ３与水混合液......
通过探讨半导体氧化物ITO膜的透光和导电机理,用反应性直流磁控溅射的镀膜工艺,在有机玻璃上低温镀制(ITO)膜,研究ITO膜溅射工艺参......
