俄歇电子谱法相关论文
利用俄歇电子能谱（ＡＥＳ）、二次离子质谱（ＳＩＭＳ）等表面分析手段，对硅栅ＭＯＳ结构Ｐｏｌｙ－Ｓｉ／ＳｉＯ２界面进行分析，发现该界面不是突变的，存在着成份过渡区．根据多晶硅薄膜的成......
本文应 X 用射线光电子能谱(XPS)、俄歇电子能谱(AES)、X 射线衍射(XRD)等技术,对用空心阴极离子镀法(HCD)生长的氮化钛膜层作了综......
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该文采用高温显微镜、俄歇电子谱仪、扫描电镜、X射线能谱衍射仪等研究了Au-Ni钎料真空钎焊1Cr18Ni9Ti不锈钢时的润湿与铺展过程。......
本文应用俄歇电子能谱(AES)等方法系统地研究了产自不同矿床、不同组成黑钨矿的浮选行为,Mn~(2+),Fe~(2+)离子的作用及MnO/FeO比与......
本文用AES和SIMS分析讨论了p-GaP与三层金属膜Pd/Zn/Pd形成良好欧姆接触层的性质....
本文讨论用快速付里叶变换法对俄歇直接谱进行反褶积和光顺处理,进而弥补常规仪器分辨率或信噪比的不够.在频域采用“慢截止”方式......
应用俄歇电子能谱对微通道板表面发雾区域进行分析。分析结果表明,发雾区碳含量比正常区高三倍。由此可推测出,发雾是由碳污染引起......
对不同方法制备的不同厚度的铝衰减膜,用微机控制α测厚仪测量了膜的质量厚度以及膜厚均匀性,用Auser电子能谱(AES)对铝膜进行了组......
采用Ａｕｇｅｒ线型分析方法－因子分析方法和已知组元强度的定量解谱技术，对电子束辅助Ｎ离子注入Ｓｉ和磁控溅射方法制备的ＴｉＮｘ薄膜的高分辨率俄歇电子能......
本文探试了一种俄歇定量分析基体效应校正因子获取的新方法。通过测量淀积过程中的俄歇强度——时间曲线,并对此进行拟合,得到定量......
将一种基于多元统计方法的因子分析法用于俄歇深度剖面分析,采用Ar+离子轰击Ta2O5/Ta样品,俄歇峰采用具有高表面灵敏度和化学态灵......
因子分析法是利用各种谱峰的峰形进行成分定量分析的方法,广泛应用于多种成分的混合物、化合物的谱峰分析。通过对因子分析法(FA)......
