反应离子束蚀刻相关论文
近年来,在光电集成电路(OEIC)及高速电子集成电路的微加工中,对GaAs及有关的Ⅲ—Ⅴ族化合物半导休的干法蚀刻已进行了广泛的研究......
本文介绍国外用在反应离子束蚀刻机上的磁控管离子源的原理,设计方法和性能。还介绍了采用这种源进行的蚀刻结果。
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介绍了一种新型的干法刻蚀方法－冷源反应离子束刻蚀法用来刻蚀各种微光学器件，并着重研究了刻蚀过程中的温度效应，提出了解决温度效应......
用反应离子束蚀刻(RIBE)技术制做了稳定的横模1.3μm Ga InAsP/InP 掩埋新月激光器。在11-25mA 的低阈值电流下实现了高达95%的单......
为了解决Si和普通玻璃进行直接键合时材料的热失配问题,提出了利用SiO2薄膜辅助进行硅-玻璃热键合(SGTB)的技术.通过分析SiO2薄膜......
微光学器件加工技术是微光学研究领域中最关键的技术,而蚀刻技术是衍射光学元件加工的关键技术之一。目前,常用的方法是等离子体蚀......
本文提出了一种制作衍射光学元件的新方法－－反应离子束蚀刻法，对此技术研究的结果表明，反应离子束蚀刻法具有高蚀刻速率、蚀刻过程各向......
提出一种微透镜阵列复制的新方法反应离子束蚀刻法（ＲＩＢＥ）。它在工作原理和参数控制等方面较传统的蚀刻方法有很大的先进性，能够实现蚀刻过......
