射频离子源相关论文
本报告介绍了市场上离子源的各种主流分类应用。重点分析了离子源在真空辅助沉积镀膜领域的工艺应用,分别介绍了直流离子源、射频......
随着现代光学元件制造技术的不断发展和社会需求的日渐提升,无论是以强激光、短波光学为代表的工程光学,还是以大规模集成电路为代......
离子束具有加工精度高、可控性好、加工面洁净无污染等优点,利用其加工超光滑光学元件可避免传统机械加工方法所带来的亚表面损伤.......
国外射频离子源中子管的中子产额已经达到1014 n/s,明显优于潘宁源中子管.为了深入了解用于中子管射频离子源的放电特性,从射频感......
准确的等离子体参数信息对射频离子源的研制十分重要,为获得这些关键参数,需要借助朗缪尔探针作为研究手段。研究利用COMSOL软件作......
中子管是一种成本低、重量轻、操作维护简单、防护容易、适于现场使用的中子源设备,主要由离子源、加速系统、靶和气压调节系统等......
介绍了为HL-2A装置设计的引出束功率为1MW的射频离子源研制情况。目前,在测试平台上,该离子源已经成功引出了束能量和束电流分别为......
为探究射频离子源驱动器线圈电气参数对射频放电的影响,主要进行了射频离子源等离子体激发的物理分析,并计算了射频电源的频率选择......
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在离子束抛光工艺过程中,材料确定性去除特性对预测光学元件的各工位材料去除量和驻留时间具有极其重要的作用。采用射频离子源对......
为研究电感耦合式射频离子源性能受离子束流、功率强度、工质流量和栅间电压的影响,以束流直径11 cm射频离子源为对象,完成了射频......
介绍了一种用于氧化物薄膜制备的射频离子束辅助溅射镀膜设备,阐述了设备原理、组成、特点以及试验结果。通过使用射频离子源和射......
设计了一套中子管用小功率射频离子源前端电路.该射频离子源前端电路主体由MC1648压控振荡器产生的信号源、功率放大器、耦合天线......
随着光学工业和半导体工业的发展，越来越多的镀膜设备配置了宽束离子源，至今宽束离子源用于固体表面注入、微细加工、材料的表面改性......
在核聚变研究中,大功率强流中性束注入是主要的等离子体二级加热手段。射频离子源由于其寿命长、可靠性强、易维护等特点,成为国际......
利用基于射频离子源的离子束刻蚀装置,分别以氩气、三氟甲烷为工作气体,初步研究了离子能量、束流和加速电压等条件对K9、石英、氧......
为了研究平面盘香形射频离子源等离子体放电特性,对射频电感耦合离子源内的放电等离子体运用磁流体动力学建立二维磁流体模型进行......
中性束注入(Neutral Beam Injection,NBI)是核聚变等离子体最直接有效的加热方式,随着聚变研究的不断深入,对NBI的要求从低功率短......
为HL-2A装置中性束注入器研制了引出束功率为1MW的射频离子源。在测试平台上,实验离子源已经成功引出了束能量和束电流分别为35ke ......
射频离子源是大型磁约束聚变装置(如ITER、CFETR)的中性束注入系统的核心部件。为了更好地研究射频等离子体放电特性,采用二维轴对......
中性束注入是实现磁约束聚变装置托卡马克加热目标的主要辅助加热手段之一,同时也是四种辅助加热方式中,原理最清楚、加热效率最高......
为了实现光学元件表面超光滑加工,避免传统机械加工方法造成的亚表面损伤,将射频等离子体加工应用于石英玻璃抛光加工。分析了通过......
