离子能量相关论文
本文介绍各种类型ＥＣＲ等离子体源和工艺研究，以及由此发展形成的几种新型刻蚀技术。
This article describes the various types of EC......
不少的教科书特别是有机化学教科书在分析羧酸酸性与其结构关系时是这样说的:一个羧酸的酸性强度,主要决定于羧酸和它的离解负离子......
对美国测试与材料学会提供的二氧化硅标准样品,用四台电子能谱仪进行了氩离子对二氧化硅的溅射产额的会测。在1KeV、3KeV 和5KeV ......
离子源是各种类型质谱仪、离子加速器、离子注入机、离子束刻蚀机等电真空设备不可缺少的部件,静电透镜系统是离子源的重要组成部......
在本文中测量了由中国原子能科学研究院的HI-13串列加速器提供的20-50MeV的F5+离子碰撞Pb原子产生的L壳层X射线谱和散射离子的背散......
实验上,利用纯CH4及CH4+Ar在几百帕量级气压下的介质阻挡放电制备类金刚石膜,研究了气压p与放电间隙d乘积(pd值)以及Ar的体积百分......
离子能量是影响脉冲真空电弧离子镀镀膜质量的一个重要参数,因而测量真空电弧中离子的能量非常重要.本文介绍了一种测量脉冲真空电......
对卢瑟福背散射分析的基本原理作了概要的介绍.论述了背散射分析的最佳实验条件、质量分辨率和分析灵敏度.列举了卢瑟福背散射分析......
在PECVD法制备SiC薄膜过程中,深入研究了工作气压及工作气体中氢稀释比例对薄膜的影响,发现以上两个参数是通过共同调整等离子体状......
介绍了一种用于离子束辅助沉积光学薄膜的改进的宽束冷阴极离子源，详细叙述了该源的工作原理和放电过程，并对离子源的工作特性进行了......
花近11万美元,买一辆光鲜亮丽的纯电动跑车,究竟是环保先锋?还是仅是利用“环保”概念制造焦点,抓人眼球? 看看这辆跑车的买主,......
霍尔推力器羽流中的离子能量分布情况对于评估推力器羽流影响，优化推力器在航天器上的布局具有重要意义。本文使用阻滞势分析器对霍......
利用Bathe过势垒模型,对飞秒强激光场中异核分子团簇((CH4)n,(CD4)n,(D2O)n)的爆炸动力学过程进行了理论研究.结果表明:异核团簇爆......
冷阴极场发射能为四极质谱计提供一种清洁、低污染、低功耗的电离离子源。传统的热阴极离子源由于制造成本比较低,使得它在各种质......
在电子回旋共振(ECR)等离子体装置中,使用Ar气,N2气,H2气和普通空气放电,对聚四氟乙烯(PTFE)材料进行表面处理以提高其表面粘结性......
据nation.com.pk网站8月23日报道,美国麻省理工学院的科学家研发了一种新方法,可使等离子体的温度和密度达到产生聚变能的条件.在......
高离化率物理气相沉积是一种新发展起来的脉冲磁控溅射技术（HPPMS）,具有溅射靶材原子高度离化与峰值功率超过平均功率等特点。它作为......
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离子推力器放电室等离子体离子的产生成本是影响推力器性能优劣的重要参数之一.从理论上分析了影响等离子体产生离子的能量消耗成......
采用电子束蒸发工艺，利用泰勒霍普森相关相干表面轮廓粗糙度仪，研究了不同基底粗糙度、不同二氧化锆薄膜厚度以及不同的离子束辅助能......
为提高介质阻挡放电方法制备类金刚石膜的质量，本论文深入研究了成膜过程中等离子体性质与成膜质量之间的关系。首先比较不同碳源气......
采用五栅网离子能量测量装置和法拉第筒测量了宽束冷阴极离子源的离子能量和离子束流密度．当Ar气流量为20sccm，在不同的放电电压和引......
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本文重点介绍了射频放电及射频加热技术在高科技领域和工业方面的一些具体应用。射频磁场感应无电极放电所产生的高能离子束可用于......
<正> 2.4 静电加速管这是使从离子源出来的离子获得足够能量的装置。在离子注入机中均采用直线型的压降加速。能量较低时,采用一段......
采用大尺寸矩形石墨靶作为真空阴极电弧源,研制了带状真空电弧磁过滤器.使用法拉第杯和朗缪尔探针对90？弯曲磁过滤器中的带状等离子......
<正> 日益增加的通讯和信息交往对现有的通讯波道提出了更高的要求,今后要实现这个要求,在技术上和经济上均不能用惯例的通信技术,......
<正>在实验上观察到了最大离子能量随靶厚度的变化关系。要想解释最大离子能量随靶厚度的变化关系,就必须考虑电子回流效应引起的......
应用CF_4、C_4F_8、CF_3I等反应气体SiO_2、单晶硅进行刻蚀研究.研究了刻蚀速率与离子能量、束流密度、入射角的关系、所得 SiO_2......
<正> 从1977年开始对离子束刻蚀作了一些初步地探索。先后做过束径为φ20mm,φ84mm和φ135mm的离子束刻蚀装置,并作了一些刻蚀试验......
随着磁控溅射镀膜技术在机械、化工、能源、环境、医学等各个领域的广泛应用与快速发展,人们对该种技术应用的科学性与准确性的要......
本文首先介绍了磁控溅射镀膜过程中等离子体的性质、主要参数、气体放电过程以及等离子体的研究现状。其次概述了磁控溅射技术的发......
介绍了一种用于离子束辅助沉积光学薄膜的新型宽束冷阴极离子源，详细叙述了该源的结构和工作过程。采用五栅网离子能量测试装置研究......
期刊
双频容性耦合等离子体(Dual-Frequency Capacitively Coupled Plasmas, DF-CCPs)能够独立控制轰击到基片表面的离子通量和能量,从......
主流高能离子注入机基于RF加速结构实现高能离子加速,其离子能量的计算较为复杂。描述了一种基于RF加速结构的高能离子注入机中离......
