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以氢气和氧气的燃烧为基础,研究了焰熔法生长单晶体过程中生长室内的燃烧特性。结果表明:在O2和H2的流量分别为6 L/min和20 L/min......
建立等离子加热条件下单晶体生长环境的物理模型,划分网格,并对温度和速度的分布数值进行计算与分析,研究初始条件和边界条件的影......
为给实验研究晶体生长工艺提供必要的理论指导,以氢气和氧气的燃烧为基础,研究了焰熔法生长金红石单晶体过程中生长室内的温度分布特......
由于高频、高速光电子器件发展的需要,器件工作层的厚度及尺寸愈来愈小,已经较成熟的液相外延、汽相外延、真空淀积等薄膜制备方法......
通过研究两管燃烧器在生长室内的燃烧特性,分析了燃烧器结构对燃烧特性的影响。结果表明:中心O2达到晶体熔帽上表面时,沿着熔帽表......
低压化学气相沉积(LPCVD)是化学气相沉积(CVD)的一个分支,同时也是半导体集成电路制造工艺中必不可少的重要工序之一。它主要用于多晶硅......
<正>美国宇航局(NASA)致力于研究在太空中种植物,力图打破生物科学和生态学的瓶颈限制,设计能够在月球和火星可持续运行的生命支持......