纳米光刻技术相关论文
冷原子系统为量子精密测量过程提供了一种接近于静止的测量介质,从而避免了热原子工作介质中存在的频移和展宽,使得测量结果更加精......
金属薄膜中纳米尺度的脊型小孔因为其优异的近场特性可用于突破衍射极限的高精度光刻技术。本文对典型的脊型小孔(C形)进行了......
近年来，随着纳米尺度下加工和表征技术的发展和成熟，表面等离子体--这一发现于上世纪初的表面物理学分支又再度激起了人们极大的研究......
在纳米光刻技术中，掩膜版通常需要逼近甚至是接触基片表面。为了获得高分辨率的图案复制结果，需要对纳米光刻技术中的掩膜版与基片进......
当微细加工技术应需要从微米尺寸迈向纳米尺寸时，在纳米尺度上，材料和结构展现出了新颖的宏观领域无法比拟的特性，打破了许多研究领域......
美国科学家开发出热蘸笔纳米光刻技术,可在多种材料表面精确构造和种植出纳米结构。美国科学家首次厘清了温度在蘸笔纳米光刻技术......
不久前，中科院光电技术研究所微光刻技术与微光学实验室首次提出了基于微结构边际的LSP超分辨光刻技术。该技术利用微纳结构边际作......
2005年7月22日，著名的四大计算机芯片制造商将与纽约州合作，在今后5年内出资5亿美元，联合开发下一代计算机芯片光刻技术，研究线宽只有......
据美国物理学家组织网2011年11月7日报道，美国科学家首次厘清了温度在蘸笔纳米光刻技术中的作用，据此研制出的热蘸笔纳米光刻技术能......
纳米尺度器件的商业化，要求开发高生产能力的纳米制备技术，该技术应满足经常对设计的器件进行改进的需要。电子束刻蚀技术和扫描探针......
随着纳米加工技术的发展,纳米结构器件必将成为未来集成电路的基础.纳米光刻技术是制作纳米结构的基础,具有重要的应用前景.文章介......
美国佛罗里达州立大学的科学家采用改进的沾笔纳米光刻技术．将坚硬的金属或半导体与柔软的有机物或生物产品结合起来．获得了一种全新......
你或许没有想过将坚硬的金属或半导体与柔软的有机物或生物产品结合起来会是何种情景，不过美国科学家可以告诉你的是，他们获得了自然......
极紫外光刻技术(EUVL,λ=13.4 nm)是为小于70 nm特征尺寸图形制作而开发的下一代光刻技术(NGL).在麦迪逊威斯康星大学开发的极紫外......
目的纳米科技作为21世纪最重要的科技产业革命之一,其研究成果被广泛应用于各个领域,给人们的生活带来巨变。在纳米科技飞速发展的......
美国劳伦斯伯克利国家实验室和伊利诺伊大学香槟分校的科学家首次研究出了温度在蘸笔纳米光刻技术中的作用，并据此开发出了新的热蘸......
近日，美国佛罗里达州立大学综合纳米研究所（INSI）的科学家完成了一项开创性的工作，勒恩荷特等人将沾笔纳米光刻经过改进，让它成为一种让......
美国科学家首次厘清了温度在蘸笔纳米光刻技术中的作用，据此研制出的热蘸笔纳米光刻技术能在物质表面构造大小为20纳米的结构。借助......
利用表面等离子体共振效应理论及金属-介质复合膜的特殊纳米光学效应对平面多层膜超分辨光刻技术进行了研究.在曝光光源为365 nm的......
为实现45纳米光刻技术．浸没式光刻几乎是近年来被业界最频繁提及的光键词了．随着浸没式光刻应用于在45nm技术尘埃落定后．同时也可能延......
德国SUSS MicroTec公司系一家专注于半导体工业及相关市场设备与技术方案著名供应商,该公司于2010年12月2日宣布与美国Rolith公司......
介绍了"自底而上"的自组装纳米制造方法中的一些关键技术.利用自组装技术将成形的或未成形的材料淀积在大面积基底上,制造出纳米结......
浸没式光刻要实现32纳米技术乃至进一步向下延伸,在高折射率液体,光学镜头以及光刻胶等关键技术领域需要不断取得突破性的进展。为......
【正】 3月24日至26日,人们关注已久的"IC China2003"终于在上海拉开了帷幕,这是国内第一个涵盖整个集成电路产业链的国际性专业大......
近年来，超分辨技术的研究越来越引起科研工作者的注意，并得到了迅速发展，许多新型的人工电磁材料和超透镜结构被提出来。特别是多层金......
介绍了“自底而上”的自组装纳米制造方法中的一些关键技术。利用自组装技术将成形的或未成形的材料淀积在大面积基底上,制造出纳......
目前,各种新型移动终端的快速发展对集成电路提出了更高的要求,集成度更高,速度更快,功耗更低成为集成电路设计和制备的重要指标。......
