纳米光刻技术相关论文
在纳米光刻技术中，掩膜版通常需要逼近甚至是接触基片表面。为了获得高分辨率的图案复制结果，需要对纳米光刻技术中的掩膜版与基片进......
美国科学家开发出热蘸笔纳米光刻技术,可在多种材料表面精确构造和种植出纳米结构。美国科学家首次厘清了温度在蘸笔纳米光刻技术......
据美国物理学家组织网2011年11月7日报道，美国科学家首次厘清了温度在蘸笔纳米光刻技术中的作用，据此研制出的热蘸笔纳米光刻技术能......
纳米尺度器件的商业化，要求开发高生产能力的纳米制备技术，该技术应满足经常对设计的器件进行改进的需要。电子束刻蚀技术和扫描探针......
利用表面等离子体共振效应理论及金属-介质复合膜的特殊纳米光学效应对平面多层膜超分辨光刻技术进行了研究.在曝光光源为365 nm的......
浸没式光刻要实现32纳米技术乃至进一步向下延伸,在高折射率液体,光学镜头以及光刻胶等关键技术领域需要不断取得突破性的进展。为......
近年来，超分辨技术的研究越来越引起科研工作者的注意，并得到了迅速发展，许多新型的人工电磁材料和超透镜结构被提出来。特别是多层金......
介绍了“自底而上”的自组装纳米制造方法中的一些关键技术。利用自组装技术将成形的或未成形的材料淀积在大面积基底上,制造出纳......
