掩膜版相关论文
无论是在半导体还是在微电子行业,掩膜版的制作都被视为一项非常重要的环节.随着科技及制造业的发展,掩膜版的制作技术也由一开始......
裸眼3D显示技术不需要佩戴任何助视设备即可获得三维效果,更符合人们的观察需求,是三维显示技术的发展方向,受到广泛关注。指向性......
该文从挂篮荷载计算、施工流程、支座及临时固结施工、挂篮安装及试验、合拢段施工、模板制作安装、钢筋安装、混凝土的浇筑及养生......
站在微电子领域,审视生物芯片中的可行性研究课题,光诱导原位合成掩膜版的优化设计是一个很值得重视的研究方向.早期使用贪婪算法,......
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CRT荫罩制造工艺的基础技术是光刻腐蚀.将应用于制造荫罩的精密光刻精细腐蚀技术引伸应用到平板显示、微电子、微机械等领域,可以......
研制了一种与掩膜光刻机相配套的新型掩膜管理控制系统。系统硬件由1个4自由度机械手、2个版库、粗预对准机构、精细预对准机构、P......
常规光刻方法通过利用电路设计每一层的掩膜版来进行曝光和显影．从而形成图案。佐治亚理工学院（GeorgiaInstitute of Technology）的研......
对于极紫外（EUV）光刻技术而言，掩膜版相关的一系列问题是其发展道路上必须跨越的鸿沟．而在这些之中又以如何解决掩膜版表面多层抗反射......
主要研究了硬盘磁头滑块二级台阶的刻蚀实验。首先研究了ICP刻蚀的刻蚀原理,然后根据二级台阶掩模版的设计要求,设计出掩膜版的图......
随着集成电路制造技术的进步,尽管CD已经接近物理和理论极限,其继续减小的趋势依旧延续着。无论如何,目前的光刻技术将在未来的几......
从事半导体设备研发和制造并有所成就的本土公司本来就不多．而专注于半导体检测设备的公司更是屈指可数．上海泽尔尼仪器有限公司就是......
提到半导体,相信大家都不会陌生了。从今年中兴事件开始,半导体行业,芯片这些词被频频推到公众的眼前。这篇文章将会是半导体产业......
随着工业技术的不断发展与完善,掩膜版在光刻领域应用十分广泛。然而制造加工以及运送过程中,表面易积累灰尘杂质,影响导体或半导......
硅微压力传感器由于体积小、重量轻、精度高、成本低等特点应用很广泛,在某些领域已取代传统的传感器.进一步研制小体积高精度的传......
利用集成电路中的光刻工艺,以玻璃为衬底,制作了高密度基因芯片,它能将数以万计的寡核苷酸固定于固相支持物,且具有高通量、并行性......
在历经了多年的乐观预测与并不顺利的初始尝试阶段后,EUV技术终于在2019年进入批量生产。掩膜制造厂对具有EUV功能的设备投资是巨......
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在TFT液晶显示器、Color Filter彩色滤光片和集成电路等的制作工艺中,为获得所需的精细pattern图形,需要使用光刻胶这样的感光材料......
浸没式光刻要实现32纳米技术乃至进一步向下延伸,在高折射率液体,光学镜头以及光刻胶等关键技术领域需要不断取得突破性的进展。为......
ue＊M＃’＃dkB4＃＃8＃”专利申请号:00109“7公开号:1278062申请日:00.06.23公开日:00.12.27申请人地址:（100084川C京市海淀区清华园申请人:清......
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<正>在65nm及以下节点,掩膜版的清洗变得更为关键,需要采用新的方法和技术。在传统的湿法工艺化学顺序中,首先用硫酸／双氧水混合液,......
集成电路产业的发展需要建立完善的材料体系,这是我国走向半导体强国的必经之路,《国家集成电路产业发展推进纲要》对上游材料提出......
<正> 红外光刻机是电子工业,特别是硅、砷化镓等半导体器件梁式引线制造工艺中不可缺少的一项设备。我们采用国产的元件和材料,试......
本文介绍了利用ＫＯＨ腐蚀液对硅台阶、台面等三维结构进行无掩膜腐蚀的新技术．应用该技术可以制作出仅用常规各向异性腐蚀所无法形成的微......
<正>对于极紫外(EUV)光刻技术而言,掩膜版相关的一系列问题是其发展道路上必须跨越的鸿沟,而在这些之中又以如何解决掩膜版表面多......
<正>雾状缺陷(Hazedefect)是残留在掩膜版上的有机物或无机物,它们在曝光时有可能会生长变大。在光刻波长为248nm时,这类缺陷尚不......
随着光纤通信技术的发展和密集波分复用（ＤＷＤＭ）系统的应用，全光交换已经成为一种趋势，光开关是实现全光交换的关键器件，它可以实现全光层的路......
随着沉浸式步进扫描光刻机台ASML 1900Gi的引入,国内晶圆制造将逐步进入45纳米世代。由于关键尺寸的不断缩小,很多先进的分辨率增......
本研究工作主要围绕着光敏型聚酰亚胺(PSPI)这一种新型工程高分子材料在半导体晶圆制造过程中的应用进行展开,具体讨论了其应用机......
<正>新型显示在国民经济中具有重要战略地位,与集成电路并称"一屏一芯",是先进制造和新一代电子信息领域的核心基础产业。据2019海......
近日，国内首条G11光掩膜版项目——路维光电高世代光掩膜生产基地项目在成都高新区启动。该项目总投资10亿元，由深圳路维光电参与设......
在不久前召开的 SPIE Microlithography(国际光学工程学会微光刻技术年度会议)上,BACUS(国际光掩膜技术学会)组织了一次圆桌会议,......
光刻机是大规模集成电路生产中的关键设备,光刻过程中能否快速、精确地对准是光刻机主要性能之一。随着集成电路集成度的提高,光刻......
